| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 固态电解质概述 | 第11-12页 |
| 1.2 YSZ陶瓷的研究现状 | 第12-18页 |
| 1.2.1 YSZ陶瓷的导电机制 | 第12-13页 |
| 1.2.2 YSZ陶瓷电导率提高的主要途径 | 第13-17页 |
| 1.2.3 YSZ陶瓷的应用 | 第17-18页 |
| 1.3 空间电荷效应对YSZ电导率的影响 | 第18-20页 |
| 1.4 磁控溅射技术的研究现状 | 第20-23页 |
| 1.4.1 磁控溅射技术的原理 | 第20-21页 |
| 1.4.2 磁控溅射技术的应用现状 | 第21-22页 |
| 1.4.3 磁控溅射制备YSZ薄膜的研究现状 | 第22-23页 |
| 1.5 YSZ电解质薄膜导电性能的影响因素 | 第23-28页 |
| 1.6 本文的选题依据、研究内容及创新点 | 第28-29页 |
| 1.6.1 选题依据 | 第28页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第28页 |
| 1.6.3 创新点 | 第28-29页 |
| 第2章 材料制备及实验方法 | 第29-39页 |
| 2.1 样品制备所用原料及设备 | 第29-30页 |
| 2.1.1 样品制备所用原料 | 第29页 |
| 2.1.2 样品制备所用实验设备 | 第29-30页 |
| 2.2 YSZ电解质薄膜的制备 | 第30-32页 |
| 2.3 晶界扩散所需溶胶的制备及扩散工艺 | 第32页 |
| 2.4 薄膜的成分及显微结构表征 | 第32-36页 |
| 2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
| 2.4.2 扫描电镜(SEM) | 第33页 |
| 2.4.3 透射电镜(TEM) | 第33-35页 |
| 2.4.4 差重-热重(TG-DSC) | 第35-36页 |
| 2.5 薄膜的电导性能测试 | 第36-39页 |
| 2.5.1 YSZ薄膜表面电极的制备 | 第36页 |
| 2.5.2 直流电阻测试 | 第36-37页 |
| 2.5.3 交流阻抗测试 | 第37-39页 |
| 第3章 溶胶涂覆层晶界扩散对柱状晶YSZ薄膜导电性能的影响 | 第39-59页 |
| 3.1 引言 | 第39-40页 |
| 3.2 溶胶的涂覆扩散工艺 | 第40-43页 |
| 3.2.1 YSZ薄膜的制备及溶胶的配制 | 第40-41页 |
| 3.2.2 柱状晶YSZ薄膜的溶胶浸渗处理工艺 | 第41页 |
| 3.2.3 溶胶浸渗后热处理工艺的确定 | 第41-43页 |
| 3.3 YSZ薄膜的显微结构表征 | 第43-48页 |
| 3.3.1 YSZ薄膜的物相分析 | 第43-45页 |
| 3.3.2 YSZ薄膜断面形貌观察 | 第45-46页 |
| 3.3.3 YSZ薄膜TEM精细分析 | 第46-48页 |
| 3.4 YSZ薄膜电导性能测试 | 第48-57页 |
| 3.4.1 退火对YSZ薄膜的电导性能的影响 | 第48-49页 |
| 3.4.2 晶界扩散掺杂Fe元素对YSZ薄膜的电导性能的影响 | 第49-52页 |
| 3.4.3 氧分压对晶界扩散掺杂Fe元素后YSZ薄膜电导行为的影响 | 第52-54页 |
| 3.4.4 先掺杂Si后掺杂Fe的YSZ薄膜的电导性能 | 第54-56页 |
| 3.4.5 过渡族元素Fe对YSZ薄膜电导性能影响的机理分析 | 第56-57页 |
| 3.5 小结 | 第57-59页 |
| 第4章 厚度对YSZ薄膜导电性能的影响 | 第59-67页 |
| 4.1 引言 | 第59页 |
| 4.2 不同厚度YSZ薄膜的显微结构表征 | 第59-62页 |
| 4.2.1 不同厚度YSZ薄膜断面形貌 | 第59-60页 |
| 4.2.2 不同厚度YSZ薄膜的物相分析 | 第60-61页 |
| 4.2.3 不同厚度YSZ薄膜表面晶粒大小TEM精细分析 | 第61-62页 |
| 4.3 厚度对YSZ薄膜电导行为的影响 | 第62-66页 |
| 4.3.1 不同厚度YSZ薄膜电导性能测试 | 第62-65页 |
| 4.3.2 厚度对YSZ薄膜电导性能影响的机理分析 | 第65-66页 |
| 4.4 小结 | 第66-67页 |
| 第5章 结论与展望 | 第67-69页 |
| 5.1 结论 | 第67-68页 |
| 5.2 展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第77页 |
| 申请专利 | 第77页 |
