摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
1.1 引言 | 第12页 |
1.2 电致变色概述 | 第12-14页 |
1.2.1 电致变色的原理 | 第12-14页 |
1.2.2 电致变色的研究历史 | 第14页 |
1.3 电致变色材料的应用及分类 | 第14-17页 |
1.3.1 电致变色的应用前景 | 第14-16页 |
1.3.2 电致变色材料的分类 | 第16-17页 |
1.4 NiO薄膜的结构与性能 | 第17-21页 |
1.4.1 NiO的晶体结构 | 第17-18页 |
1.4.2 Ni(OH)_2和NiOOH的结构 | 第18-19页 |
1.4.3 NiO薄膜的电致变色机理 | 第19-20页 |
1.4.4 NiO薄膜的研究现状 | 第20-21页 |
1.4.5 NiO薄膜电致变色性能的衡量指标 | 第21页 |
1.5 NiO电致变色薄膜制备技术简介 | 第21-24页 |
1.5.1 真空蒸镀法 | 第22页 |
1.5.2 磁控溅射法 | 第22页 |
1.5.3 脉冲激光沉积法 | 第22-23页 |
1.5.4 溶胶凝胶法 | 第23页 |
1.5.5 化学气相沉积法 | 第23页 |
1.5.6 电化学沉积法 | 第23-24页 |
1.6 论文的选题意义和研究内容 | 第24-26页 |
第二章 实验与测试 | 第26-34页 |
2.1 实验原料 | 第26-27页 |
2.2 实验装置 | 第27-28页 |
2.3 样品的制备 | 第28-30页 |
2.3.1 基板的预处理 | 第28页 |
2.3.2 NiO/Ni/rGO复合溶胶配制 | 第28-29页 |
2.3.3 Ni/NiO/C复合溶胶的配制 | 第29页 |
2.3.4 薄膜的制备 | 第29页 |
2.3.5 薄膜的热处理 | 第29-30页 |
2.4 样品的表征和分析手段 | 第30-34页 |
2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第30-31页 |
2.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第31页 |
2.4.3 透射电子显微镜(TEM) | 第31页 |
2.4.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
2.4.5 拉曼光谱分析(Raman) | 第32页 |
2.4.6 热重-差热分析 | 第32-33页 |
2.4.7 电化学性能测试 | 第33页 |
2.4.8 光学性能测试 | 第33-34页 |
第三章 Ni/NiO/rGO复合薄膜制备工艺的探索 | 第34-46页 |
3.1 复合凝胶及各添加物的热重-差热分析 | 第34-36页 |
3.2 热处理工艺对Ni/NiO/rGO复合薄膜的结构和性能的影响 | 第36-45页 |
3.2.1 热处理气氛和时间对Ni/NiO/rGO复合薄膜的结构和性能的影响 | 第37-39页 |
3.2.2 热处理温度对Ni/NiO/rGO复合薄膜的结构和性能的影响 | 第39-45页 |
3.3 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 氧化石墨烯含量对Ni/NiO/rGO复合薄膜性能影响的研究 | 第46-62页 |
4.1 氧化石墨烯含量对Ni/NiO/rGO复合薄膜结构和表面形貌的影响 | 第46-54页 |
4.2 氧化石墨烯含量对Ni/NiO/rGO复合薄膜电化学性能的影响 | 第54-57页 |
4.3 不同含量氧化石墨烯对Ni/NiO/rGO复合薄膜光学性能的影响 | 第57-59页 |
4.4 本章小结 | 第59-62页 |
第五章 炭黑含量对Ni/NiO/C纳米复合薄膜性能影响的研究 | 第62-72页 |
5.1 炭黑含量对Ni/NiO/C纳米复合薄膜结构和表面形貌的影响 | 第62-66页 |
5.2 炭黑含量对Ni/NiO/C纳米复合薄膜电化学性能的影响 | 第66-68页 |
5.2.1 Ni/NiO/C复合电致变色薄膜的循环伏安曲线 | 第66-67页 |
5.2.2 Ni/NiO/C复合电致变色薄膜的响应时间曲线 | 第67-68页 |
5.3 炭黑含量对Ni/NiO/C复合薄膜光学性能的影响 | 第68-70页 |
5.4 本章小结 | 第70-72页 |
第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
6.1 主要结论 | 第72-73页 |
6.2 不足与展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
个人简历 | 第84-86页 |
攻读学位期间发表的学术论文和取得的其他研究成果 | 第86页 |