摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 选题背景 | 第9-10页 |
1.2 国内外研究现状 | 第10-14页 |
1.2.1 常用检测方法 | 第10-11页 |
1.2.2 X射线成像技术的发展现状 | 第11-12页 |
1.2.3 X射线检测技术在电力行业的应用 | 第12-14页 |
1.3 本文的研究思路、内容及意义 | 第14-17页 |
1.3.1 本文研究思路 | 第14页 |
1.3.2 本文主要研究内容 | 第14-17页 |
第2章 X射线成像技术理论基础 | 第17-27页 |
2.1 X射线成像的物理基础 | 第17-21页 |
2.1.1 X射线的产生 | 第17-18页 |
2.1.2 X射线与物质的作用过程 | 第18-19页 |
2.1.3 X射线探伤原理 | 第19-21页 |
2.2 常用X射线成像系统 | 第21-22页 |
2.2.1 X射线胶片成像系统 | 第21页 |
2.2.2 基于图像增强器与CCD的成像系统 | 第21-22页 |
2.2.3 基于光纤耦合CCD的成像系统 | 第22页 |
2.2.4 基于线阵扫描探测器(LDA)的成像系统 | 第22页 |
2.3 本文选用的X射线成像系统 | 第22-26页 |
2.3.1 平板探测器成像原理 | 第23-24页 |
2.3.2 平板探测器内部结构 | 第24-25页 |
2.3.3 基于平板探测器成像系统的组成及特点 | 第25-26页 |
2.4 本章小节 | 第26-27页 |
第3章 耐张线夹X射线成像检测的关键参数选择 | 第27-43页 |
3.1 X光片图像质量分析指标 | 第27-30页 |
3.1.1 图像不清晰度 | 第27-28页 |
3.1.2 图像分辨率 | 第28-29页 |
3.1.3 图像对比度 | 第29-30页 |
3.2 焦点尺寸对X射线成像质量的影响 | 第30页 |
3.3 X射线检测耐张线夹的焦距选择 | 第30-34页 |
3.3.1 检测焦距对成像质量的影响 | 第30页 |
3.3.2 耐张线夹检测焦距选择 | 第30-34页 |
3.4 X射线检测耐张线夹的管电压与管电流选择 | 第34-38页 |
3.4.1 管电压与管电流对成像质量的影响 | 第34页 |
3.4.2 耐张线夹的检测管电压与管电流选择 | 第34-38页 |
3.5 X射线检测耐张线夹的曝光量选择 | 第38-40页 |
3.5.1 曝光量对成像质量的影响 | 第38-39页 |
3.5.2 耐张线夹的检测曝光量选择 | 第39-40页 |
3.6 本章小结 | 第40-43页 |
第4章 基于X射线成像技术的检测系统平台设计与实现 | 第43-58页 |
4.1 检测系统硬件选择 | 第43-46页 |
4.1.1 X射线器选择 | 第43-45页 |
4.1.2 数字成像板选择 | 第45-46页 |
4.2 检测装置机械结构设计 | 第46-48页 |
4.2.1 工作原理 | 第46页 |
4.2.2 检测装置设计 | 第46-48页 |
4.3 检测系统平台的设计实现 | 第48-50页 |
4.4 X射线检测系统辐射安全分析 | 第50-52页 |
4.4.1 理论分析 | 第50-51页 |
4.4.2 X射线辐射剂量监测分析 | 第51-52页 |
4.5 检测系统图像软件开发应用 | 第52-56页 |
4.5.1 软件运行环境 | 第52页 |
4.5.2 软件功能 | 第52-53页 |
4.5.3 软件界面 | 第53页 |
4.5.4 图像增强 | 第53-56页 |
4.6 本章小结 | 第56-58页 |
第5章 耐张线夹X射线检测系统平台工程应用与分析 | 第58-66页 |
5.1 耐张线夹的检测应用 | 第58-59页 |
5.1.1 检测过程 | 第58-59页 |
5.1.2 检测系统平台问题分析 | 第59页 |
5.2 耐张线夹压接缺陷分析 | 第59-64页 |
5.2.1 工艺性缺陷 | 第60-61页 |
5.2.2 功能性缺陷 | 第61-63页 |
5.2.3 耐张线夹压接缺陷统计分析 | 第63-64页 |
5.3 耐张线夹压接缺陷补救措施与建议 | 第64-65页 |
5.4 本章小结 | 第65-66页 |
结论与展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第72-74页 |
致谢 | 第74页 |