| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| 1.1 石墨烯概述 | 第10-23页 |
| 1.1.1 石墨烯的结构 | 第11-12页 |
| 1.1.2 石墨烯的性质与应用 | 第12-19页 |
| 1.1.3 石墨烯的制备方法 | 第19-23页 |
| 1.2 CVD法制备石墨烯概述 | 第23-30页 |
| 1.2.1 CVD法制备石墨烯 | 第23-26页 |
| 1.2.2 CVD法制备的石墨烯的典型表征手段 | 第26-30页 |
| 1.3 本课题的研究内容与目的 | 第30-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-46页 |
| 2.1 实验原料与试剂 | 第32页 |
| 2.2 实验设备与仪器 | 第32-33页 |
| 2.3 CVD法合成石墨烯薄膜的过程 | 第33-37页 |
| 2.3.1 石墨烯在铜箔上的催化生长及转移过程 | 第33-36页 |
| 2.3.2 石墨烯在二氧化硅基底上的无催化生长 | 第36-37页 |
| 2.4 测试表征手段 | 第37-46页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析(XRD) | 第37-39页 |
| 2.4.2 光学显微镜 | 第39页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第39-40页 |
| 2.4.4 原子力显微镜(AFM) | 第40-41页 |
| 2.4.5 激光拉曼光谱分析(Raman Spectroscopy) | 第41-42页 |
| 2.4.6 X光电子能谱分析(XPS) | 第42-43页 |
| 2.4.7 薄膜导电性分析 | 第43-44页 |
| 2.4.8 薄膜透光率分析 | 第44-46页 |
| 第三章 铜基底上催化生长的石墨烯的结构表征分析 | 第46-56页 |
| 3.1 表面微观形貌分析 | 第46-48页 |
| 3.2 拉曼光谱分析 | 第48-50页 |
| 3.3 薄膜透光率测试 | 第50-51页 |
| 3.4 薄膜电阻测试 | 第51-53页 |
| 3.5 小结 | 第53-56页 |
| 第四章 二氧化硅基底上无催化生长的石墨烯的表征分析 | 第56-64页 |
| 4.1 表面形貌分析 | 第56-57页 |
| 4.2 拉曼光谱分析 | 第57-60页 |
| 4.3 XPS分析 | 第60-62页 |
| 4.4 小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 5.1 结论 | 第64-65页 |
| 5.2 课题展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及研究成果 | 第75页 |