摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 文献综述 | 第10-30页 |
1.1 乳状液 | 第10-12页 |
1.2 乳液界面催化(Pickeringinterfacialcatalysis) | 第12-17页 |
1.2.1 两亲性酸碱催化剂 | 第13-14页 |
1.2.2 两亲性氧化/环氧化催化剂 | 第14-15页 |
1.2.3 两亲性还原/加氢催化剂 | 第15-16页 |
1.2.4 两亲性氢解催化剂 | 第16页 |
1.2.5 两亲性串联反应催化剂 | 第16-17页 |
1.2.6 两亲性固化酶粒子 | 第17页 |
1.3 氧化石墨烯及其应用简述 | 第17-22页 |
1.3.1 氧化石墨烯在有机溶剂中的分散 | 第19页 |
1.3.2 自立的氧化石墨烯纸 | 第19-20页 |
1.3.3 氧化石墨烯薄膜 | 第20-21页 |
1.3.4 氧化石墨烯纳米复合材料 | 第21-22页 |
1.4 介孔二氧化硅及其制备简介 | 第22-28页 |
1.4.1 制备MSNs的反应动力学控制 | 第23-25页 |
1.4.2 MSN的悬浮性 | 第25页 |
1.4.3 改进stober法 | 第25-26页 |
1.4.4 二元模板剂 | 第26-27页 |
1.4.5 碱源和硅源 | 第27页 |
1.4.6 孔道朝向 | 第27页 |
1.4.7 扩孔 | 第27-28页 |
1.4.8 表面活性剂的除去和表面官能团化 | 第28页 |
1.5 氧化石墨烯-介孔二氧化硅复合材料研究进展 | 第28-30页 |
第2章 实验方法、使用仪器及表征研究 | 第30-38页 |
2.1 实验试剂、仪器、检测手段 | 第30-33页 |
2.1.1 实验试剂 | 第30-31页 |
2.1.2 实验设备和表征设备 | 第31-32页 |
2.1.3 表征检测手段 | 第32-33页 |
2.2 实验步骤 | 第33-35页 |
2.2.1 改进Hummers法制备氧化石墨烯(GO) | 第33-34页 |
2.2.2 低浓度模板剂条件下制备MCM-41型分子筛 | 第34页 |
2.2.3 溶胶-凝胶法制备还原氧化石墨烯-介孔二氧化硅(rGO-MSN)催化剂 | 第34页 |
2.2.4 枝接法枝接-SO_3H改性rGO-MSN | 第34-35页 |
2.2.5 rGO-MSN稳定的水-石蜡Pickering乳液的制备 | 第35页 |
2.2.6 SO_3H-rGO-MSN乳化催化乙二醇-十二醛缩醛反应 | 第35页 |
2.3 表征方法 | 第35-38页 |
2.3.1 扫描电镜 | 第35-36页 |
2.3.2 透射电镜 | 第36页 |
2.3.3 小角X-ray电子衍射光谱分析(Small-angleXRD) | 第36页 |
2.3.4 热失重分析 | 第36页 |
2.3.5 BET分析 | 第36页 |
2.3.6 接触角分析 | 第36页 |
2.3.7 光学显微镜分析 | 第36-38页 |
第3章 还原氧化石墨烯-介孔二氧化硅催化剂的制备及其在Pickering乳液界面催化的应用研究 | 第38-66页 |
3.1 氧化石墨烯的制备 | 第38-42页 |
3.1.1 XRD分析 | 第38-39页 |
3.1.2 SEM、TEM分析 | 第39-40页 |
3.1.3 氧化石墨烯(GO)稳定的水-石蜡体系Pickering乳液制备 | 第40-42页 |
3.2 低浓度模板剂条件下制备MCM-41型分子筛 | 第42-45页 |
3.2.1 XRD分析 | 第42页 |
3.2.2 SEM、TEM分析 | 第42-44页 |
3.2.3 BET分析 | 第44-45页 |
3.3 溶胶-凝胶法制备还原氧化石墨烯-介孔二氧化硅(rGO-MSN)催化剂 | 第45-54页 |
3.3.1 SEM表征 | 第45-47页 |
3.3.2 TEM表征 | 第47-48页 |
3.3.3 XRD、BET、PSD分析 | 第48-50页 |
3.3.4 TG表征 | 第50-51页 |
3.3.5 TEMElementalMapping | 第51-53页 |
3.3.6 同类型制备方法比较 | 第53-54页 |
3.4 接枝法枝接-SO_3H改性rGO-MSN | 第54-56页 |
3.4.1 接触角表征 | 第54-55页 |
3.4.2 光学显微镜表征 | 第55-56页 |
3.5 rGO-MSN稳定的水-石蜡Pickering乳液的制备 | 第56-59页 |
3.6 SO_3H-rGO-MSN乳化催化乙二醇-十二醛缩醛反应 | 第59-66页 |
第4章 结论与展望 | 第66-68页 |
4.1 结论 | 第66页 |
4.2 展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-82页 |
发表论文和参加科研情况 | 第82-84页 |
致谢 | 第84-85页 |