| 摘要 | 第11-13页 |
| Abstract | 第13-15页 |
| 第一章 绪论 | 第16-34页 |
| 1.1 研究背景 | 第16-17页 |
| 1.2 半导体电池工作原理及发展现状 | 第17-20页 |
| 1.2.1 半导体电池工作原理 | 第17-19页 |
| 1.2.2 半导体电池发展现状 | 第19-20页 |
| 1.3 氧化亚铜的性质和制备 | 第20-26页 |
| 1.3.1 金属氧化物太阳能电池 | 第20-22页 |
| 1.3.2 氧化亚铜的基本性质 | 第22-23页 |
| 1.3.3 氧化亚铜的制备方法 | 第23-26页 |
| 1.4 磁控溅射制备氧化亚铜薄膜 | 第26-28页 |
| 1.4.1 磁控溅射原理 | 第26-27页 |
| 1.4.2 掺杂对磁控溅射制备氧化亚铜薄膜的影响 | 第27-28页 |
| 1.5 氧化亚铜应用 | 第28-31页 |
| 1.5.1 氧化亚铜在太阳能电池领域的应用与进展 | 第28-30页 |
| 1.5.2 氧化亚铜在光催化领域的应用与进展 | 第30-31页 |
| 1.6 本论文的选题依据和主要研究内容 | 第31-34页 |
| 1.6.1 选题思想 | 第31页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第31-34页 |
| 第二章 样品制备与测试分析方法 | 第34-40页 |
| 2.1 氧化亚铜薄膜样品制备 | 第34-36页 |
| 2.2 样品表征测试分析方法 | 第36-40页 |
| 2.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第36-37页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第37页 |
| 2.2.3 拉曼光谱分析 | 第37页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第37-38页 |
| 2.2.5 光谱测试分析仪 | 第38页 |
| 2.2.6 光致发光(PL)光谱 | 第38页 |
| 2.2.7 霍尔效应 | 第38-40页 |
| 第三章 氧化亚铜薄膜制备与基本结构表征 | 第40-56页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验制备条件 | 第40-41页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第41-53页 |
| 3.3.1 薄膜成分分析与形貌分析 | 第41-48页 |
| 3.3.2 拉曼结果分析 | 第48-51页 |
| 3.3.3 氧化亚铜薄膜的光学性质 | 第51-53页 |
| 3.3.4 氧化亚铜薄膜的电学性能 | 第53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-56页 |
| 第四章 Na掺杂对氧化亚铜薄膜结构与电学性能的影响 | 第56-72页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 实验制备条件 | 第56-57页 |
| 4.3 退火对氧化亚铜薄膜影响 | 第57-61页 |
| 4.3.1 退火处理对氧化亚铜薄膜相组成的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.2 退火处理对氧化亚铜薄膜表面形貌的影响 | 第59页 |
| 4.3.3 退火处理对氧化亚铜薄膜电学性能的影响 | 第59-61页 |
| 4.4 Na掺杂对氧化亚铜薄膜结构和性能的影响 | 第61-71页 |
| 4.4.1 两种Na掺杂方式对氧化亚铜薄膜结构的影响 | 第61-64页 |
| 4.4.2 两种Na掺杂方式Na元素的分布 | 第64-66页 |
| 4.4.3 两种Na掺杂方式对氧化亚铜薄膜形貌的影响 | 第66-68页 |
| 4.4.4 两种Na掺杂方式的XPS元素分析 | 第68-70页 |
| 4.4.5 Na掺杂对氧化亚铜薄膜电学性能的影响 | 第70-71页 |
| 4.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 5.1 论文主要结论 | 第72-73页 |
| 5.2 论文创新点 | 第73页 |
| 5.3 论文完成过程中存在的不足和对未来的展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 附件 | 第84页 |
