| 中文摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 前言 | 第8-26页 |
| 1.1 透明导电氧化薄膜(TCO) 概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 锡掺杂三氧化二铟薄膜(ITO) 概述 | 第9-10页 |
| 1.1.2 铌掺杂二氧化钛薄膜(Ti_(1-x)Nb_x0_2) 概述 | 第10-11页 |
| 1.2 TCO 薄膜的研究现状 | 第11-24页 |
| 1.2.1 TCO 薄膜的结构性质 | 第11-17页 |
| 1.2.1.1 TCO 薄膜的取向性与外延性 | 第12-14页 |
| 1.2.1.2 TCO 薄膜的化学价态 | 第14-15页 |
| 1.2.1.3 TCO 薄膜的形貌特征 | 第15-17页 |
| 1.2.2 TCO 薄膜的光学性质 | 第17-18页 |
| 1.2.3 TCO 薄膜的电输运性质 | 第18-24页 |
| 1.2.3.1 TCO 薄膜的电阻率 | 第19-21页 |
| 1.2.3.2 TCO 薄膜的载流子浓度 | 第21-22页 |
| 1.2.3.3 TCO 薄膜的迁移率和散射机制 | 第22-23页 |
| 1.2.3.4 TCO 薄膜的磁电阻 | 第23-24页 |
| 1.2.4 TCO 薄膜的磁学特性 | 第24页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第24-26页 |
| 第二章 样品的制备和表征手段 | 第26-33页 |
| 2.1 透明导电氧化薄膜的制备 | 第26-30页 |
| 2.1.1 ITO 薄膜的制备 | 第26-28页 |
| 2.1.1.1 射频磁控溅射法简介 | 第26-27页 |
| 2.1.1.2 ITO 薄膜的制备过程 | 第27-28页 |
| 2.1.2 Ti_(1-x)Nb_x0_2 靶材的制备 | 第28-29页 |
| 2.1.2.1 固相反应法简介 | 第28页 |
| 2.1.2.2 Ti_(1-x)Nb_x0_2 靶材的制备过程 | 第28-29页 |
| 2.1.3 Ti_(1-x)Nb_x0_2 薄膜的制备 | 第29-30页 |
| 2.2 透明导电氧化薄膜的表征手段 | 第30-33页 |
| 2.2.1 厚度测量 | 第30页 |
| 2.2.2 微观结构表征 | 第30-31页 |
| 2.2.3 电输运性质测量 | 第31-32页 |
| 2.2.4 磁性测量 | 第32-33页 |
| 第三章 锡掺杂三氧化二铟薄膜的结构和性质 | 第33-48页 |
| 3.1 ITO 薄膜的结构 | 第33-39页 |
| 3.1.1 ITO薄膜的微观结构 | 第33-37页 |
| 3.1.2 ITO薄膜的成分和价态 | 第37-38页 |
| 3.1.3 ITO薄膜的表面形貌 | 第38-39页 |
| 3.2 ITO 薄膜的电输运性质 | 第39-46页 |
| 3.2.1 导电机制 | 第40-43页 |
| 3.2.2 散射机制 | 第43-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 铌掺杂二氧化钛薄膜的结构和性质 | 第48-68页 |
| 4.1 Ti_(1-x)Nb_x0_2 薄膜的结构 | 第48-53页 |
| 4.1.1 Ti_(1-x)Nb_x0_2薄膜的微观结构 | 第48-50页 |
| 4.1.2 Ti_(1-x)Nb_x0_2薄膜的成分和价态 | 第50-52页 |
| 4.1.3 Ti_(1-x)Nb_x0_2薄膜的表面形貌 | 第52-53页 |
| 4.2 Ti_(1-x)Nb_x0_2 薄膜的电输运性质 | 第53-64页 |
| 4.2.1 导电机制 | 第53-59页 |
| 4.2.2 磁电阻来源 | 第59-64页 |
| 4.3 Ti_(1-x)Nb_x0_2 薄膜的磁学性质 | 第64-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
