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SiGe工艺整数频率合成器设计

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第一章 绪论第7-11页
    1.1 应用背景第7-8页
    1.2 频率合成器的发展及特点第8-9页
    1.3 论文结构第9-11页
第二章 ADS软件和工艺简介第11-24页
    2.1 ADS简介第11-19页
        2.1.1 ADS应用领域第11-12页
        2.1.2 ADS仿真器第12-19页
    2.2 SiGe工艺简介第19-22页
        2.2.1 B0SiGe技术发展及其应用第19-20页
        2.2.2 B1SiGe双极晶体管分析第20-21页
        2.2.3 B2Atmel的SiGe工艺简介第21-22页
        2.2.4 Bipolar双极与CMOS和BiCMOS工艺的区别第22页
    2.3 设计难点第22-24页
第三章 关键器件设计和噪声源分析第24-35页
    3.1 电感的设计第24-28页
    3.2 电容的选择第28-30页
    3.3 滤波器第30-32页
    3.4 集成电路存在的噪声源[6]第32-35页
第四章 整数频率合成器的电路设计第35-64页
    4.1 鉴频鉴相器和电荷泵的分析和设计第35-45页
        4.1.1 B4原理分析第35-40页
        4.1.2 B5鉴频鉴相器的电路实现第40-43页
        4.1.3 仿真结果及分析第43-45页
    4.2 LC振荡器设计第45-55页
        4.2.1 B7LC振荡器原理第45-50页
        4.2.2 B8振荡器参数考虑第50-53页
        4.2.3 B9VCO电路的设计和仿真第53-55页
    4.3 分频器设计第55-61页
        4.3.1 0B1二分频的预分频第56-57页
        4.3.2 1B2/3 分频可编程分频器第57-61页
    4.4 系统的整体仿真第61-64页
第五章 总结第64-65页
参考文献第65-67页
致谢第67页

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