| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-28页 |
| 1.1 膜的定义及其应用 | 第8页 |
| 1.2 常见氟化聚合物膜简介 | 第8-14页 |
| 1.2.1 Nafion膜简介 | 第9-11页 |
| 1.2.2 PTFE膜简介 | 第11-13页 |
| 1.2.3 膨体聚四氟乙烯（EPTFE）膜简介 | 第13-14页 |
| 1.3 膜的改性研究现状 | 第14-27页 |
| 1.3.1 Nafion膜的改性研究 | 第14-18页 |
| 1.3.2 PTFE膜的改性研究 | 第18-22页 |
| 1.3.3 其他膜的改性研究 | 第22-23页 |
| 1.3.4 N_20_4 的制备 | 第23页 |
| 1.3.5 N_20_4 电氧化法 | 第23-25页 |
| 1.3.6 HN0_3 脱水法 | 第25页 |
| 1.3.7 N_20_4 电氧化过程中隔膜的研究现状 | 第25-27页 |
| 1.4 本课题的研究内容及意义 | 第27-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-37页 |
| 2.1 实验材料和实验仪器 | 第28-29页 |
| 2.2 化学蚀刻改性 | 第29-30页 |
| 2.2.1 钠萘溶液的制备 | 第29页 |
| 2.2.2 钠萘溶液改性PTFE膜 | 第29-30页 |
| 2.3 PTFE/Nafion改性膜的制备 | 第30页 |
| 2.4 无机-有机杂化膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.4.1 PNS膜的制备 | 第30页 |
| 2.4.2 PNT膜的制备 | 第30页 |
| 2.4.3 无机-有机杂化膜制备后处理的讨论 | 第30-31页 |
| 2.5 PNS/PNT-EPTFE复合膜的制备 | 第31-32页 |
| 2.5.1 PNS-EPTFE膜的制备 | 第31页 |
| 2.5.2 PNT-EPTFE膜的制备 | 第31-32页 |
| 2.6 膜的表征及性能测试 | 第32-37页 |
| 2.6.1 膜电阻 | 第32页 |
| 2.6.2 渗透实验 | 第32-33页 |
| 2.6.3 扫描电镜（SEM）分析 | 第33-34页 |
| 2.6.4 红外光谱（FTIR）分析 | 第34页 |
| 2.6.5 光电子能谱（XPS）分析 | 第34页 |
| 2.6.6 PTFE膜厚度的测定 | 第34页 |
| 2.6.7 水接触角测定 | 第34页 |
| 2.6.8 电化学合成N_20_5 | 第34-37页 |
| 第三章 化学蚀刻改性和Si0_2/Ti0_2掺杂改性膜的研究 | 第37-59页 |
| 3.1 后处理对负载量的影响 | 第37-38页 |
| 3.2 改性前后膜质量的变化 | 第38页 |
| 3.3 改性膜的红外光谱 | 第38-42页 |
| 3.4 光电子能谱(XPS)分析 | 第42-44页 |
| 3.5 改性PTFE膜的形貌分析 | 第44-47页 |
| 3.6 改性膜电导率的变化 | 第47-48页 |
| 3.7 改性膜水接触角的测定 | 第48-50页 |
| 3.8 渗透表征 | 第50-57页 |
| 3.8.1 H_20的渗透 | 第52-54页 |
| 3.8.2 N_20_4 的渗透 | 第54-55页 |
| 3.8.3 H_20和N_20_4 相互影响下的渗透 | 第55-57页 |
| 3.9 电解实验结果 | 第57-59页 |
| 第四章 Ti0_2/Si0_2掺杂改性膜与EPTFE膜的复合膜的研究 | 第59-65页 |
| 4.1 渗透性能表征 | 第59-64页 |
| 4.1.1 H_20的渗透 | 第59-60页 |
| 4.1.2 N_20_4 的渗透 | 第60-62页 |
| 4.1.3 H_20和N_20_4 相互影响下的渗透 | 第62-64页 |
| 4.2 电解实验结果 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
