摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 引言 | 第9-20页 |
1.1 液晶及液晶高弹体 | 第9-13页 |
1.2 LANDAU-DE GENNES理论及本构模型 | 第13-16页 |
1.3 光敏液晶高弹体光力耦合原理 | 第16-17页 |
1.4 液晶高弹体的应用前景 | 第17-18页 |
1.5 本文的主要工作与意义 | 第18-20页 |
第二章 光力耦合本构方程及其线性化 | 第20-34页 |
2.1 光机本构方程 | 第20-22页 |
2.2 线性化光机本构方程 | 第22-24页 |
2.3 平面应力问题有限元弱形式 | 第24-26页 |
2.4 光对材料本构特性的影响 | 第26-32页 |
2.4.1 初始光强的影响 | 第27-29页 |
2.4.2 特征衰减距离的影响 | 第29-30页 |
2.4.3 温度的影响 | 第30-32页 |
2.5 小结 | 第32-34页 |
第三章 二维梁光力耦合有限元模型 | 第34-46页 |
3.1 ABAQUS用户子程序二次开发 | 第34-40页 |
3.1.1 ABAQUS简介 | 第34-35页 |
3.1.2 用户子程序UMAT接口 | 第35-38页 |
3.1.3 UMAT二次开发程序 | 第38-40页 |
3.2 有限元模型建立及验证 | 第40-45页 |
3.2.1 模型建立及网格收敛性考察 | 第40-42页 |
3.2.2 均匀光致收缩的解析解与数值解比较 | 第42-45页 |
3.3 小结 | 第45-46页 |
第四章 二维自由梁光致变形特性分析 | 第46-52页 |
4.1 变形形貌 | 第46-47页 |
4.2 弯曲曲率 | 第47-51页 |
4.3 小结 | 第51-52页 |
第五章 光弯曲下梁内应力应变与指向矢分布特性 | 第52-63页 |
5.1 应力分布 | 第52-55页 |
5.2 正应变分布 | 第55-56页 |
5.3 剪切应变及旋转应变 | 第56-60页 |
5.4 指向矢分布 | 第60-61页 |
5.5 小结 | 第61-63页 |
第六章 光场与边界约束对弯曲行为的影响 | 第63-73页 |
6.1 光场对横截面变形的影响 | 第63-67页 |
6.1.1 横截面变形特性 | 第63-64页 |
6.1.2 修正的Euler-Bernoulli梁模型 | 第64-67页 |
6.2 局部光照 | 第67-69页 |
6.3 固支边界 | 第69-71页 |
6.4 小结 | 第71-73页 |
第七章 结论与展望 | 第73-75页 |
7.1 结论 | 第73-74页 |
7.2 展望 | 第74-75页 |
参考文献 | 第75-81页 |
附录 | 第81-83页 |
硕士期间论文发表情况 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |