| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 太阳电池 | 第9-15页 |
| 1.2.1 太阳电池基本原理 | 第9-11页 |
| 1.2.2 太阳电池的分类 | 第11-13页 |
| 1.2.3 太阳电池的发展 | 第13-15页 |
| 1.3 选题目的与研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 CdTe薄膜太阳电池 | 第16-24页 |
| 2.1 CdTe材料的性质 | 第16-17页 |
| 2.2 CdTe薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 2.2.1 近空间升华法(CSS) | 第17-18页 |
| 2.2.2 射频磁控溅射法(RF magnetron sputtering) | 第18页 |
| 2.2.3 真空热蒸发法 | 第18-19页 |
| 2.2.4 电沉积制备技术(ED) | 第19页 |
| 2.3 CdTe薄膜太阳电池的结构 | 第19-22页 |
| 2.3.1 透明导电基底(TCO) | 第20页 |
| 2.3.2 CdS缓冲层材料 | 第20-21页 |
| 2.3.3 CdTe吸收层材料 | 第21-22页 |
| 2.3.4 背电极 | 第22页 |
| 2.4 CdTe太阳电池的发展历程 | 第22-24页 |
| 第三章 干法CdCl_2处理对溅射CdTe/CdS薄膜的影响 | 第24-33页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 实验过程 | 第24-26页 |
| 3.2.1 衬底预处理 | 第24-25页 |
| 3.2.2 溅射沉积过程 | 第25页 |
| 3.2.3 干法CdCl_2退火处理过程 | 第25-26页 |
| 3.2.4 CdTe薄膜性能的表征 | 第26页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第26-32页 |
| 3.3.1 薄膜晶体结构与表面形态 | 第26-29页 |
| 3.3.2 薄膜的光学特性 | 第29-30页 |
| 3.3.3 拉曼分析 | 第30-31页 |
| 3.3.4 CdTe/CdS电池的光电特性 | 第31-32页 |
| 3.4 结论 | 第32-33页 |
| 第四章 CdCl_2处理对溅射和近空间升华法制备的CdTe薄膜性能影响的比较 | 第33-42页 |
| 4.1 引言 | 第33页 |
| 4.2 实验过程 | 第33-35页 |
| 4.2.1 衬底预处理 | 第33页 |
| 4.2.2 溅射法制备CdTe薄膜 | 第33-34页 |
| 4.2.3 近空间升华(CSS)技术制备CdTe薄膜 | 第34-35页 |
| 4.2.4 湿法CdCl_2退火处理 | 第35页 |
| 4.2.5 薄膜的性能表征 | 第35页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第35-41页 |
| 4.3.1 晶体结构与表面形态 | 第35-38页 |
| 4.3.2 光学特性 | 第38-40页 |
| 4.3.3 CdTe薄膜的光电转换特性 | 第40-41页 |
| 4.4 结论 | 第41-42页 |
| 第五章 CIGS薄膜太阳电池无镉缓冲层 | 第42-52页 |
| 5.1 CIGS薄膜太阳电池 | 第42-44页 |
| 5.2 无镉缓冲层 | 第44-46页 |
| 5.3 Zn_(1-x)Mg_xO材料的制备方法 | 第46-48页 |
| 5.3.1 原子层沉积 | 第46页 |
| 5.3.2 射频磁控溅射法 | 第46-47页 |
| 5.3.3 喷雾热解法 | 第47-48页 |
| 5.4 超声喷雾热解法制备Zn_(1-x)Mg_xO薄膜 | 第48-51页 |
| 5.4.1 实验过程 | 第48-49页 |
| 5.4.2 结果与讨论 | 第49-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-54页 |
| 6.1 论文的主要结论 | 第52-53页 |
| 6.2 工作展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-61页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
