| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第1章 概论 | 第7-20页 |
| 1.1 引言 | 第7-8页 |
| 1.2 纳米线数量和排列方式对器件性能影响的研究进展 | 第8-12页 |
| 1.3 太赫兹技术及其在纳米材料中的应用 | 第12-19页 |
| 1.4 课题的提出 | 第19-20页 |
| 第2章 Ni纳米线的制备技术和测试系统 | 第20-31页 |
| 2.1 纳米线的制备 | 第20-25页 |
| 2.1.1 实验试剂和实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.2 Ni纳米线的制备过程 | 第21-25页 |
| 2.2 太赫兹光谱系统 | 第25-29页 |
| 2.2.1 太赫兹时域光谱系统 | 第25-26页 |
| 2.2.2 太赫兹波的产生 | 第26-27页 |
| 2.2.3 太赫兹时域光谱技术工作原理 | 第27-29页 |
| 2.3 样品的测量及数据处理 | 第29-30页 |
| 2.4 小结 | 第30-31页 |
| 第3章 Ni纳米线的有序排列 | 第31-37页 |
| 3.1 Ni纳米线浓度的设计和排列 | 第31-34页 |
| 3.2 Ni纳米线角度的设计和排列 | 第34-36页 |
| 3.3 小结 | 第36-37页 |
| 第4章 不同浓度和有序度的Ni纳米线阵列的太赫兹波谱分析 | 第37-45页 |
| 4.1 不同浓度Ni纳米线阵列的太赫兹波响应及分析 | 第37-40页 |
| 4.2 不同有序度Ni纳米线阵列的太赫兹波响应及分析 | 第40-44页 |
| 4.3 小结 | 第44-45页 |
| 第5章 总结与展望 | 第45-47页 |
| 5.1 总结 | 第45-46页 |
| 5.2 展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 攻读硕士学位期间完成的学术论文与专利 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
