| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 引言 | 第13-15页 |
| 1.2 三价铬镀液中配位机理的研究 | 第15-20页 |
| 1.2.1 水溶液中三价铬离子配位化学研究 | 第15-16页 |
| 1.2.2 含配合物水溶液中三价铬离子配位化学研究 | 第16-18页 |
| 1.2.3 配位剂对Cr~(3+)阴极电沉积的影响 | 第18-20页 |
| 1.3 三价铬阴极电沉积机理的研究 | 第20-21页 |
| 1.4 课题目的意义和研究内容 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-29页 |
| 第2章 实验 | 第29-37页 |
| 2.1 试剂及仪器 | 第29-31页 |
| 2.2 实验方法及条件 | 第31-33页 |
| 2.2.1 电化学石英晶体微天平实验 | 第31页 |
| 2.2.2 传统电化学实验 | 第31-32页 |
| 2.2.3 电镀实验 | 第32页 |
| 2.2.4 粉末X射线衍射仪（XRD）测试 | 第32页 |
| 2.2.5 扫描电镜（SEM）测试 | 第32-33页 |
| 2.2.6 原子力显微镜(AFM)测试 | 第33页 |
| 2.3 数据处理 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第3章 硫酸盐体系中三价铬阴极电沉积过程的研究 | 第37-53页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 EQCM-AU电极上CV和EQCM研究 | 第37-41页 |
| 3.3 铂电极上其他电化学方法研究 | 第41-45页 |
| 3.3.1 阴极极化曲线 | 第41页 |
| 3.3.2 循环伏安法 | 第41-42页 |
| 3.3.3 扫描速率对铬阴极沉积过程的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4 镀液温度对铬阴极沉积过程的影响 | 第43页 |
| 3.3.5 三价铬成核机理计时电流分析测量 | 第43-45页 |
| 3.4 铬镀层形貌与结构研究 | 第45-47页 |
| 3.4.1 SEM形貌分析 | 第45-46页 |
| 3.4.2 AFM研究 | 第46-47页 |
| 3.4.3 XRD测试结果 | 第47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 第4章 聚乙二醇对三价铬阴极电沉积过程影响的研究 | 第53-71页 |
| 4.1 引言 | 第53-54页 |
| 4.2 阴极极化曲线 | 第54-57页 |
| 4.3 其他电化学方法研究 | 第57-62页 |
| 4.3.1 EQCM-Au 电极上 PEG 对三价铬电沉积过程影响的 CV 和 EQCM 研究 | 第57-58页 |
| 4.3.2 循环伏安法 | 第58页 |
| 4.3.3 扫描速率对铬阴极沉积过程的影响 | 第58-59页 |
| 4.3.4 镀液温度对铬阴极沉积过程的影响 | 第59-60页 |
| 4.3.5 三价铬成核机理计时电流分析测量 | 第60-62页 |
| 4.4 铬镀层结构与形貌研究 | 第62-64页 |
| 4.4.1 SEM形貌分析 | 第62-63页 |
| 4.4.2 AFM研究 | 第63-64页 |
| 4.4.3 XRD测试结果 | 第64页 |
| 4.5 本章小结 | 第64-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 第5章 SPS和SPS+PEG对三价铬阴极电沉积过程影响的研究 | 第71-89页 |
| 5.1 引言 | 第71-72页 |
| 5.2 阴极极化曲线 | 第72-73页 |
| 5.3 其他电化学方法研究 | 第73-80页 |
| 5.3.1 EQCM-Au电极上SPS和PEG+SPS对三价铬电沉积过程影响的CV和EQCM研究 | 第73-74页 |
| 5.3.2 循环伏安法 | 第74-75页 |
| 5.3.3 扫描速率对铬阴极沉积过程的影响 | 第75-76页 |
| 5.3.4 镀液温度对铬阴极沉积过程的影响 | 第76-77页 |
| 5.3.5 三价铬成核机理计时电流分析测量 | 第77-80页 |
| 5.4 铬镀层结构与形貌研究 | 第80-83页 |
| 5.4.1 SEM形貌分析 | 第80-81页 |
| 5.4.2 AFM研究 | 第81-82页 |
| 5.4.3 XRD测试结果 | 第82-83页 |
| 5.5 本章小结 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 结论与展望 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 攻读硕士学位期间完成的科研成果 | 第93页 |
