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激光触发真空开关导通特性研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-19页
    1.1 研究背景第9-12页
        1.1.1 脉冲功率技术第9-10页
        1.1.2 真空触发开关第10-11页
        1.1.3 激光触发真空开关及其应用第11-12页
    1.2 国内外研究现状第12-17页
        1.2.1 电触发真空开关研究现状第12-13页
        1.2.2 激光触发真空开关研究现状第13-17页
    1.3 研究的目的和意义第17页
    1.4 论文结构与研究内容第17-19页
2 激光触发真空开关导通特性研究的理论基础第19-28页
    2.1 真空间隙电击穿主要学说第19-20页
        2.1.1 场致发射学说第19页
        2.1.2 微粒撞击学说第19-20页
        2.1.3 粒子交换学说第20页
    2.2 激光触发真空开关导通原理第20-27页
        2.2.1 触发阶段主要为初始等离子体的产生阶段第20-24页
        2.2.2 主间隙导通阶段分析第24-27页
    2.3 本章小结第27-28页
3 激光触发真空开关结构设计及实验平台搭建第28-38页
    3.1 激光触发真空开关基本结构第28-29页
    3.2 触发材料及位置选取第29-33页
        3.2.1 触发材料特性分析第29-31页
        3.2.2 触发材料位置选取第31-33页
    3.3 实验平台搭建第33-37页
        3.3.1 激光源选取第33-34页
        3.3.2 触发光路设计第34-35页
        3.3.3 真空系统与检测第35页
        3.3.4 LC振荡实验回路及测量电路设计第35-37页
    3.4 本章小结第37-38页
4 激光触发真空开关触发导通特性实验研究第38-49页
    4.1 初始等离子体产生第38-39页
    4.2 触发阀值及理论探讨第39-42页
        4.2.1 触发阀值实验结果第39-41页
        4.2.2 触发阀值结果理论分析第41-42页
    4.3 最低工作电压及理论探讨第42-45页
        4.3.1 最低工作电压第42-43页
        4.3.2 电弧形成机制第43-45页
    4.4 触发导通成功率第45-47页
    4.5 本章小结第47-49页
5 激光触发真空开关时延特性实验研究第49-54页
    5.1 时延特性与主间隙电压及激光能量的关系第49-50页
    5.2 时延特性与极性配置的关系第50-51页
    5.3 时延特性与触头距离的关系第51-52页
    5.4 本章小结第52-54页
结论第54-56页
参考文献第56-59页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第59-60页
致谢第60-61页

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