| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第11-20页 |
| 1.1 碲资源的概述 | 第11-12页 |
| 1.1.1 碲矿物的分布 | 第11页 |
| 1.1.2 碲资源的应用 | 第11-12页 |
| 1.2 微生物冶金技术概述 | 第12-14页 |
| 1.2.1 浸矿微生物的种类 | 第12页 |
| 1.2.2 浸矿作用机理 | 第12-13页 |
| 1.2.3 技术特点 | 第13页 |
| 1.2.4 工业应用 | 第13-14页 |
| 1.3 碲的形态分析进展 | 第14-17页 |
| 1.3.1 环境中碲的形态 | 第14页 |
| 1.3.2 样品前处理 | 第14-15页 |
| 1.3.3 碲的无机形态分析 | 第15-16页 |
| 1.3.4 碲有机形态的分析 | 第16-17页 |
| 1.4 氧化性碲的生物还原作用 | 第17页 |
| 1.5 选题背景与研究意义 | 第17-19页 |
| 1.6 本研究的主要内容及创新点 | 第19-20页 |
| 1.6.1 研究内容及目的 | 第19页 |
| 1.6.2 创新之处 | 第19-20页 |
| 第2章 不同前处理法-ICP-MS测定低品位碲矿中碲及其他元素的含量 | 第20-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.2 仪器设备与试剂 | 第20-21页 |
| 2.2.1 主要仪器设备 | 第20页 |
| 2.2.2 主要试剂 | 第20-21页 |
| 2.2.3 试剂的配制 | 第21页 |
| 2.3 实验方法 | 第21-23页 |
| 2.3.1 仪器工作条件 | 第21-22页 |
| 2.3.2 样品前处理方法 | 第22页 |
| 2.3.3 标准曲线的绘制 | 第22-23页 |
| 2.3.4 测定同位素的选择 | 第23页 |
| 2.3.5 样品的测定 | 第23页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第23-27页 |
| 2.4.1 方法检出限的比较 | 第23-24页 |
| 2.4.2 样品测定和精密度的比较 | 第24-26页 |
| 2.4.3 方法可操作性比较 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 低品位碲矿生物浸出液中碲的形态分析 | 第28-43页 |
| 3.1 实验材料 | 第28页 |
| 3.2 仪器设备与试剂 | 第28-30页 |
| 3.2.1 主要仪器设备 | 第28页 |
| 3.2.2 主要试剂 | 第28-29页 |
| 3.2.3 试剂的配制 | 第29-30页 |
| 3.3 实验方法 | 第30-31页 |
| 3.3.1 细菌浸矿实验方法 | 第30页 |
| 3.3.2 标准曲线的绘制 | 第30页 |
| 3.3.3 仪器最佳工作条件 | 第30-31页 |
| 3.3.4 碲浸出率的测定 | 第31页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第31-42页 |
| 3.4.1 仪器工作条件的选择 | 第31-34页 |
| 3.4.2 化学反应体系的选择 | 第34-35页 |
| 3.4.3 干扰实验及其干扰消除 | 第35-38页 |
| 3.4.4 检出限的测定 | 第38-39页 |
| 3.4.5 Te(VI)还原剂的选择 | 第39-40页 |
| 3.4.6 精密度实验 | 第40-41页 |
| 3.4.7 回收率实验 | 第41页 |
| 3.4.8 样品的测定 | 第41-42页 |
| 3.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 光合细菌对氧化性碲的还原特征研究 | 第43-53页 |
| 4.1 实验材料 | 第43页 |
| 4.1.1 菌种 | 第43页 |
| 4.1.2 供试培养基 | 第43页 |
| 4.2 仪器设备与试剂 | 第43-44页 |
| 4.2.1 主要仪器设备 | 第43-44页 |
| 4.2.2 主要试剂 | 第44页 |
| 4.2.3 试剂的配制 | 第44页 |
| 4.3 实验方法 | 第44-46页 |
| 4.3.1 光合细菌对氧化性碲的还原实验 | 第44-45页 |
| 4.3.2 扫描电镜(SEM)样品制备方法 | 第45页 |
| 4.3.3 透射电镜(TEM)样品制备方法 | 第45页 |
| 4.3.4 X射线衍射(XRD)样品制备 | 第45页 |
| 4.3.5 光合细菌对氧化性碲的抗性研究 | 第45-46页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第46-52页 |
| 4.4.1 沼泽红假单胞菌对氧化性碲的还原现象 | 第46-48页 |
| 4.4.2 扫描电镜(SEM)结果分析 | 第48-49页 |
| 4.4.3 透射电镜(TEM)结果分析 | 第49-50页 |
| 4.4.4 X射线衍射(XRD)结果分析 | 第50-51页 |
| 4.4.5 光合细菌对氧化性碲抗性结果分析 | 第51-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 响应面法优化氧化性碲还原条件研究 | 第53-63页 |
| 5.1 实验材料 | 第53页 |
| 5.2 主要试剂 | 第53页 |
| 5.3 实验方法 | 第53-55页 |
| 5.3.1 单因素试验优化氧化性碲还原条件 | 第53-54页 |
| 5.3.2 响应面法优化试验设计 | 第54页 |
| 5.3.3 碲还原率的测定 | 第54-55页 |
| 5.4 结果与讨论 | 第55-62页 |
| 5.4.1 Te(Ⅳ)和Te(Ⅵ)比例对还原率的影响 | 第55页 |
| 5.4.2 初始碲浓度对还原率的影响 | 第55-56页 |
| 5.4.3 菌种接种量对还原率的影响 | 第56页 |
| 5.4.4 接种后培养天数对还原率的影响 | 第56页 |
| 5.4.5 光照强度对还原率的影响 | 第56-57页 |
| 5.4.6 pH对还原率的影响 | 第57页 |
| 5.4.7 Box-Behnken中心组合设计试验与响应面优化还原条件 | 第57-62页 |
| 5.4.8 最佳还原条件的预测与检验 | 第62页 |
| 5.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读学位期间取得学术成果 | 第71页 |
