| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第11页 |
| 1.2 国内外研究现状和发展态势 | 第11-17页 |
| 1.2.1 铁磁共振及自旋整流的测量技术 | 第11-15页 |
| 1.2.2 自旋霍尔角的研究存在分歧 | 第15-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 自旋整流及逆自旋霍尔效应相关基础理论 | 第18-45页 |
| 2.1 磁性薄膜的微波磁学性质 | 第18-22页 |
| 2.1.1 磁化强度的运动方程 | 第18-19页 |
| 2.1.2 张量磁导率 | 第19-21页 |
| 2.1.3 铁磁共振线宽 | 第21-22页 |
| 2.2 微带线测试夹具基本理论 | 第22-32页 |
| 2.2.1 传输线理论 | 第22-23页 |
| 2.2.2 散射参量矩阵 | 第23-24页 |
| 2.2.3 终端短路微带线测试夹具 | 第24-26页 |
| 2.2.4 矢量网络分析仪测试铁磁共振 | 第26-32页 |
| 2.3 自旋整流效应基本理论 | 第32-40页 |
| 2.3.1 各向异性磁阻效应 | 第32-34页 |
| 2.3.2 反常霍尔效应 | 第34-35页 |
| 2.3.3 广义欧姆定律 | 第35-37页 |
| 2.3.4 自旋整流电压的定量分析 | 第37-40页 |
| 2.4 逆自旋霍尔效应基本理论 | 第40-44页 |
| 2.4.1 自旋泵浦理论 | 第40-42页 |
| 2.4.2 逆自旋霍尔效应理论 | 第42-44页 |
| 2.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 单层NiFe薄膜的自旋整流效应的测试研究 | 第45-58页 |
| 3.1 自旋整流测试平台的搭建 | 第45-49页 |
| 3.2 单层NiFe薄膜磁学参量的测试 | 第49-53页 |
| 3.3 自旋整流与铁磁共振测试方法的对比 | 第53-57页 |
| 3.4 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 双层NiFe/Pt薄膜的逆自旋霍尔效应的测试研究 | 第58-82页 |
| 4.1 逆自旋霍尔电压的定量分析 | 第58-61页 |
| 4.2 旋转磁场角度分离电压信号 | 第61-65页 |
| 4.3 逆自旋霍尔电压的翻转样品测试方法 | 第65-72页 |
| 4.4 样品电压信号随微波频率功率的变化 | 第72-76页 |
| 4.5 自旋霍尔角的计算 | 第76-78页 |
| 4.6 薄膜界面对自旋注入的影响 | 第78-80页 |
| 4.7 本章小结 | 第80-82页 |
| 第五章 结论与展望 | 第82-84页 |
| 5.1 结论 | 第82-83页 |
| 5.2 展望 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 硕士研究期间取得的成果 | 第89-90页 |