多弧离子镀刀具复合涂层的制备与性能研究
| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 1 引言 | 第11-26页 |
| 1.1 研究背景 | 第11页 |
| 1.2 刀具涂层材料及其分类 | 第11-15页 |
| 1.2.1 硬涂层 | 第12-14页 |
| 1.2.2 软涂层 | 第14-15页 |
| 1.3 刀具涂层结构 | 第15-16页 |
| 1.4 刀具涂层常用制备方法 | 第16-22页 |
| 1.4.1 化学气相沉积法(CVD) | 第16页 |
| 1.4.2 物理气相沉积法(PVD) | 第16-22页 |
| 1.5 TlALN涂层国内外研究现状 | 第22-24页 |
| 1.6 论文研究目的和内容 | 第24-26页 |
| 2 多弧离子镀 | 第26-32页 |
| 2.1 真空阴级电弧沉积技术的原理 | 第26-27页 |
| 2.2 多弧离子镀工艺参数 | 第27-31页 |
| 2.2.1 弧电流 | 第27-28页 |
| 2.2.2 弧电压 | 第28页 |
| 2.2.3 轰击电压 | 第28页 |
| 2.2.4 基体偏置电压 | 第28-29页 |
| 2.2.5 镀膜温度 | 第29页 |
| 2.2.6 氩离子轰击时间 | 第29页 |
| 2.2.7 主弧轰击时间 | 第29-30页 |
| 2.2.8 镀膜时间 | 第30页 |
| 2.2.9 压强 | 第30页 |
| 2.2.10 氮气分压 | 第30-31页 |
| 2.3 多弧离子镀技术的特点 | 第31-32页 |
| 3 涂层及实验设计 | 第32-41页 |
| 3.1 涂层设计原理 | 第32页 |
| 3.2 实验设计方案 | 第32-34页 |
| 3.2.1 偏压梯度变化 | 第33页 |
| 3.2.2 涂层成分结构梯度变化 | 第33-34页 |
| 3.2.3 涂层性能检测 | 第34页 |
| 3.3 涂层实验设备 | 第34-37页 |
| 3.3.1 镀膜室 | 第35页 |
| 3.3.2 蒸发离化源 | 第35页 |
| 3.3.3 真空系统 | 第35-36页 |
| 3.3.4 供气系统 | 第36页 |
| 3.3.5 冷却水系统 | 第36页 |
| 3.3.6 电气系统 | 第36-37页 |
| 3.4 实验工艺 | 第37-41页 |
| 3.4.1 工件镀膜前处理 | 第37页 |
| 3.4.2 镀膜过程 | 第37-41页 |
| 4 多弧离子镀复合涂层的偏压梯度变化研究 | 第41-52页 |
| 4.1 高速钢基体涂层性能对比 | 第43-47页 |
| 4.1.1 涂层分层厚度 | 第43-44页 |
| 4.1.2 涂层分层显微硬度 | 第44-45页 |
| 4.1.3 涂层膜基结合力 | 第45-47页 |
| 4.2 硬质合金基体涂层性能对比 | 第47-52页 |
| 4.2.1 涂层分层厚度 | 第47-49页 |
| 4.2.2 涂层分层显微硬度 | 第49-50页 |
| 4.2.3 涂层膜基结合力 | 第50-52页 |
| 5 弧离子镀复合涂层的结构梯度变化研究 | 第52-63页 |
| 5.1 高速钢基体涂层性能对比 | 第54-58页 |
| 5.1.1 涂层分层厚度 | 第54-55页 |
| 5.1.2 涂层分层显微硬度 | 第55-56页 |
| 5.1.3 涂层膜基结合力 | 第56-58页 |
| 5.2 硬质合金基体涂层性能对比 | 第58-63页 |
| 5.2.1 涂层分层厚度 | 第58-59页 |
| 5.2.2 涂层分层显微硬度 | 第59-60页 |
| 5.2.3 涂层膜基结合力 | 第60-63页 |
| 6 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 作者简历 | 第66-68页 |
| 学位论文数据集 | 第68页 |
