黑磷二维材料的制备及其光电特性表征
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 类石墨烯二维层状材料 | 第10-13页 |
1.2.1 石墨烯简介 | 第10-11页 |
1.2.2 类石墨烯过渡金属硫化物 | 第11-13页 |
1.3 新型二维材料黑磷 | 第13-20页 |
1.3.1 引言 | 第13页 |
1.3.2 黑磷的晶体结构 | 第13页 |
1.3.3 黑磷晶体早期研究 | 第13-14页 |
1.3.4 黑磷晶体的电子结构 | 第14-16页 |
1.3.5 黑磷在光电子器件中的应用 | 第16-17页 |
1.3.6 黑磷的各向异性及其在器件中的应用 | 第17-20页 |
第二章 二维材料制备与表征技术 | 第20-32页 |
2.1 二维材料的制备方法 | 第20-25页 |
2.1.1 自上而下制备方法 | 第20-21页 |
2.1.2 自下而上制备方法 | 第21-24页 |
2.1.3 辅助制备方法 | 第24-25页 |
2.2 二维材料的表征 | 第25-32页 |
2.2.1 光学显微镜 | 第25-26页 |
2.2.2 扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
2.2.3 原子力显微镜 | 第27页 |
2.2.4 透射电子显微镜 | 第27-29页 |
2.2.5 拉曼光谱 | 第29-32页 |
第三章 薄层黑磷的制备及其光谱特性 | 第32-44页 |
3.1 前言 | 第32页 |
3.2 实验方法 | 第32-33页 |
3.3 实验结果与讨论 | 第33-41页 |
3.3.1 薄层黑磷的制备与层厚表征 | 第33-35页 |
3.3.2 薄层黑磷的光致发光 | 第35-37页 |
3.3.3 等离子体辅助刻蚀制备薄层黑磷 | 第37-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-44页 |
第四章 黑磷晶体各向异性光电特性研究 | 第44-56页 |
4.1 引言 | 第44页 |
4.2 实验方法 | 第44-45页 |
4.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
4.3.1 黑磷的晶体取向判定 | 第45页 |
4.3.2 角度依赖拉曼光谱 | 第45-49页 |
4.3.3 各向异性电输运研究 | 第49-53页 |
4.4 本章小结 | 第53-56页 |
第五章 薄层黑磷的洁净转移方法 | 第56-62页 |
5.1 引言 | 第56页 |
5.2 实验方法与结果 | 第56-61页 |
5.2.1 碱溶液刻蚀转移法 | 第56-58页 |
5.2.2 PMMA基底无水转移方法 | 第58-59页 |
5.2.3 干法转移与原位退火方法 | 第59-61页 |
5.3 本章小结 | 第61-62页 |
第六章 总结 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-74页 |
致谢 | 第74-76页 |
个人简历及攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第76页 |