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铜锡硫薄膜材料的研究与制备

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第10-22页
    1.1 前言第10-11页
    1.2 太阳电池的工作原理第11-12页
    1.3 铜锡硫(Cu_2SnS_3)薄膜太阳电池的介绍第12-14页
        1.3.1 Cu_2SnS_3薄膜材料的特性第12-13页
        1.3.2 Cu_2SnS_3薄膜太阳电池的典型结构第13页
        1.3.3 Cu_2SnS_3薄膜太阳电池的发展及研究现状第13-14页
    1.4 Cu_2SnS_3薄膜的制备工艺第14-17页
        1.4.1 蒸发法第14-15页
        1.4.2 溅射法第15页
        1.4.3 脉冲激光沉积法第15-16页
        1.4.4 喷雾热解法第16页
        1.4.5 电化学沉积法第16页
        1.4.6 直接溶液旋涂/涂敷法第16-17页
        1.4.7 其他制备方法第17页
    1.5 本文的研究意义及研究内容第17-22页
        1.5.1 研究意义第17-20页
        1.5.2 研究内容第20-22页
第2章 Cu_2SnS_3(CTS)薄膜材料的制备及表征方法第22-27页
    2.1 CTS薄膜材料的制备方法及设备第22-24页
        2.1.1 磁控溅射技术及新型薄膜太阳电池成膜系统第22-23页
        2.1.2 硫化技术及红外快速硫化炉第23-24页
    2.2 CTS薄膜材料的测试表征及设备第24-27页
        2.2.1 薄膜的表面形貌及化学组分分析第24-25页
        2.2.2 薄膜的晶体结构及物相分析第25-26页
        2.2.3 薄膜的光学性能表征第26页
        2.2.4 薄膜的电学性能表征第26-27页
第3章 Cu_2SnS_3(CTS)薄膜材料的制备与性能表征第27-45页
    3.1 Sn/CuS预制层制备CTS薄膜第27-36页
        3.1.1 预制层的设计及制备第27-28页
        3.1.2 预制层的硫化第28-30页
        3.1.3 硫化过程中升温速率的探究第30-31页
        3.1.4 硫化温度的探究第31-34页
        3.1.5 CTS薄膜光学性能的测试表征第34-35页
        3.1.6 CTS薄膜电学性能的测试表征第35-36页
    3.2 Sn/Cu预制层制备CTS薄膜第36-44页
        3.2.1 预制层的设计及制备第36页
        3.2.2 预制层的硫化第36-38页
        3.2.3 硫化过程中升温速率的探究第38-39页
        3.2.4 硫化温度的探究第39-42页
        3.2.5 CTS薄膜光学性能的测试表征第42-43页
        3.2.6 CTS薄膜电学性能的测试表征第43-44页
    3.3 本章小结第44-45页
第4章 Cu_2SnS_3(CTS)薄膜太阳电池的制备第45-54页
    4.1 两种不同预制层制备CTS吸收层的比较第45-48页
    4.2 Cu_2SnS_3薄膜太阳电池的制备第48-50页
        4.2.1 化学水浴法沉积硫化镉(CdS)缓冲层第48-49页
        4.2.2 射频磁控溅射法制备掺铝氧化锌(AZO)窗口层第49-50页
    4.3 Cu_2SnS_3薄膜太阳电池的测试与分析第50-53页
    4.4 本章小结第53-54页
第5章 结论及展望第54-57页
    5.1 主要结论第54-55页
    5.2 论文创新点第55-56页
    5.3 研究中的问题及未来的展望第56-57页
参考文献第57-64页
攻读学位期间发表的学术论文和研究成果第64-66页
致谢第66页

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