摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-19页 |
1.1 镁及镁合金的基本性质 | 第10页 |
1.2 镁合金的特点及应用 | 第10-11页 |
1.3 镁合金的腐蚀 | 第11-12页 |
1.3.1 镁合金腐蚀机理 | 第11页 |
1.3.2 镁合金的腐蚀类型 | 第11-12页 |
1.4 镁合金的腐蚀防护 | 第12-13页 |
1.5 镁合金表面防护 | 第13-16页 |
1.5.1 电镀和化学镀 | 第13页 |
1.5.2 化学转化膜 | 第13页 |
1.5.3 阳极氧化和微弧氧化 | 第13-14页 |
1.5.4 电泳沉积 | 第14-15页 |
1.5.5 气相沉积 | 第15页 |
1.5.6 热喷涂 | 第15-16页 |
1.6 化学镀镍 | 第16页 |
1.7 镁合金表面镍基三元非晶态镀层 | 第16-18页 |
1.7.1 镁合金表面电镀铜 | 第16-17页 |
1.7.2 镁合金表面镍基三元非晶态镀层的研究现状 | 第17-18页 |
1.8 本课题的主要研究内容及意义 | 第18-19页 |
2 实验方法 | 第19-27页 |
2.1 实验材料 | 第19页 |
2.2 实验主要药品试剂及设备仪器 | 第19-20页 |
2.3 化学镀前基体预处理 | 第20-21页 |
2.3.1 丙酮超声波清洗 | 第20页 |
2.3.2 酸洗 | 第20-21页 |
2.3.3 活化 | 第21页 |
2.3.4 镁合金表面浸锌 | 第21页 |
2.4 镁合金表面直流电镀铜工艺 | 第21-22页 |
2.5 镍基三元合金镀层的制备 | 第22-23页 |
2.5.1 化学镀镍机制 | 第22-23页 |
2.5.2 化学镀液的配制 | 第23页 |
2.6 实验工艺流程 | 第23-25页 |
2.7 三元合金镀层化学沉积速率的测定 | 第25页 |
2.8 镀层微观形貌观察和成分表征 | 第25页 |
2.9 镀层组织及相组成分析 | 第25页 |
2.10 镀层附着力测试 | 第25页 |
2.11 镀层耐蚀性测试 | 第25-27页 |
3 化学镀Ni-Cu-P镀层及其耐蚀性研究 | 第27-44页 |
3.1 化学镀Ni-Cu-P镀层的配方及工艺参数 | 第27-28页 |
3.2 直流预镀铜层的形貌及成分分析 | 第28页 |
3.3 直流预镀铜表面相组成分析 | 第28-29页 |
3.4 直流预镀铜层耐蚀性分析 | 第29-30页 |
3.5 Ni-Cu-P镀层的微观形貌及成分分析 | 第30-34页 |
3.5.1 Ni-Cu-P镀层截面形貌及成分分析 | 第30-31页 |
3.5.2 Ni-Cu-P镀层表面形貌及成分分析 | 第31-34页 |
3.6 CuSO_4添加量对Ni-Cu-P镀层的相组成影响 | 第34页 |
3.7 CuSO_4添加量对Ni-Cu-P镀层沉积速率及耐蚀性的影响 | 第34-42页 |
3.7.1 CuSO_4添加量对Ni-Cu-P镀层沉积速率的影响 | 第34-35页 |
3.7.2 Ni-Cu-P镀层的极化曲线 | 第35-36页 |
3.7.3 Ni-Cu-P镀层的阻抗谱 | 第36-39页 |
3.7.4 CuSO4添加量对镀层腐蚀速率和腐蚀形貌的影响 | 第39-42页 |
3.8 Ni-Cu-P镀层附着力分析 | 第42页 |
3.9 本章小结 | 第42-44页 |
4 化学镀Ni-W-P镀层及其耐蚀性研究 | 第44-58页 |
4.1 化学镀Ni-W-P镀层的配方及工艺参数 | 第44-45页 |
4.2 Ni-W-P镀层的微观形貌及成分分析 | 第45-47页 |
4.2.1 Ni-W-P镀层截面形貌及成分分析 | 第45页 |
4.2.2 Ni-W-P镀层表面形貌及成分分析 | 第45-47页 |
4.3 Na_2WO_4添加量对Ni-W-P镀层沉积速率和相组成的影响 | 第47-49页 |
4.3.1 Na_2WO_4添加量对Ni-W-P镀层沉积速率的影响 | 第47-48页 |
4.3.2 Na_2WO_4添加量对Ni-W-P镀层相组成的影响 | 第48-49页 |
4.4 Na_2WO_4添加量对Ni-W-P镀层耐蚀性的影响 | 第49-55页 |
4.4.1 Ni-W-P镀层的极化曲线 | 第49-50页 |
4.4.2 Ni-W-P镀层的阻抗谱 | 第50-52页 |
4.4.3 Na_2WO_4添加量对镀层腐蚀速率和腐蚀形貌的影响 | 第52-55页 |
4.5 Ni-W-P镀层的附着力分析 | 第55-56页 |
4.6 本章小结 | 第56-58页 |
5 化学镀Ni-Mo-P镀层及其耐蚀性研究 | 第58-75页 |
5.1 化学镀Ni-Mo-P镀层的配方及工艺参数 | 第58-59页 |
5.2 pH值对Ni-Mo-P镀层沉积速率和相组成的影响 | 第59-60页 |
5.2.1 pH值对Ni-Mo-P镀层沉积速率的影响 | 第59页 |
5.2.2 pH值对Ni-Mo-P镀层相组成的影响 | 第59-60页 |
5.3 Na_2MoO_4添加量对Ni-Mo-P镀层沉积速率和相组成的影响 | 第60-62页 |
5.3.1 Na_2MoO_4的添加量对Ni-Mo-P镀层沉积速率的影响 | 第60-61页 |
5.3.2 Na_2MoO_4添加量对Ni-Mo-P镀层相组成的影响 | 第61-62页 |
5.4 Na_2MoO_4添加量对Ni-Mo-P镀层微观形貌及成分的影响 | 第62-66页 |
5.4.1 Ni-Mo-P镀层的截面形貌及成分分析 | 第62-63页 |
5.4.2 Ni-Mo-P镀层的表面形貌及成分分析 | 第63-66页 |
5.5 Na_2MoO_4添加量对Ni-Mo-P镀层耐蚀性的影响 | 第66-72页 |
5.5.1 Ni-Mo-P镀层的极化曲线 | 第66-67页 |
5.5.2 Ni-Mo-P镀层的阻抗谱 | 第67-69页 |
5.5.3 Na2MoO4添加量对镀层腐蚀速率和腐蚀形貌的影响 | 第69-72页 |
5.6 Ni-Mo-P镀层附着力分析 | 第72-73页 |
5.7 本章小结 | 第73-75页 |
6 结论 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-81页 |
附录 | 第81页 |