基于多种测量手段的模型转捩位置测量与控制实验研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 缩略词 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 转捩测量方法 | 第14-15页 |
| 1.2.1 定性观察法 | 第14-15页 |
| 1.2.2 平均速度法 | 第15页 |
| 1.2.3 瞬时信号法 | 第15页 |
| 1.3 转捩控制方法 | 第15-16页 |
| 1.3.1 被动转捩控制技术 | 第15-16页 |
| 1.3.2 主动转捩控制技术 | 第16页 |
| 1.4 本课题转捩控制技术背景 | 第16-19页 |
| 1.4.1 粗糙元控制技术背景 | 第16-18页 |
| 1.4.2 等离子体控制技术背景 | 第18-19页 |
| 1.5 本课题研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 测量技术与仪器 | 第20-32页 |
| 2.1 油膜干涉法 | 第20-25页 |
| 2.1.1 油膜干涉法测量原理 | 第20-22页 |
| 2.1.2 油膜干涉测量装置 | 第22-25页 |
| 2.2 热线热膜测量技术 | 第25-30页 |
| 2.2.1 热线测量技术 | 第25-28页 |
| 2.2.2 热膜测量技术 | 第28-30页 |
| 2.3 小结 | 第30-32页 |
| 第三章 高速边界层转捩测量与控制 | 第32-43页 |
| 3.1 粗糙元控制技术简介 | 第32页 |
| 3.2 亚音速翼型转捩控制 | 第32-42页 |
| 3.2.1 自然转捩位置测量 | 第32-34页 |
| 3.2.2 粗糙元初步控制效果 | 第34-36页 |
| 3.2.3 粗糙元高度影响实验 | 第36-40页 |
| 3.2.4 粗糙元间距影响实验 | 第40-41页 |
| 3.2.5 对比分析 | 第41-42页 |
| 3.3 小结 | 第42-43页 |
| 第四章 低速边界层转捩测量与控制 | 第43-65页 |
| 4.1 等离子体控制技术简介 | 第43-47页 |
| 4.2 平板测量与控制实验 | 第47-53页 |
| 4.2.1 激励器射流特性测试 | 第47-49页 |
| 4.2.2 激励器连续放电控制实验 | 第49-51页 |
| 4.2.3 放电参数影响实验 | 第51-53页 |
| 4.3 翼型测量与控制实验 | 第53-64页 |
| 4.3.1 翼型自然转捩位置测量 | 第54-57页 |
| 4.3.2 基本放电控制实验 | 第57-58页 |
| 4.3.3 放电参数影响实验 | 第58-59页 |
| 4.3.4 转捩推迟效果统计 | 第59-62页 |
| 4.3.5 油膜干涉对照实验 | 第62-64页 |
| 4.4 小结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-68页 |
| 5.1 本文研究总结 | 第65页 |
| 5.1.1 测量技术总结 | 第65页 |
| 5.1.2 转捩控制技术总结 | 第65页 |
| 5.2 问题与展望 | 第65-68页 |
| 5.2.1 测量技术问题与展望 | 第65-66页 |
| 5.2.2 控制技术问题与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |
