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Ta\CoFeB\MgO多层膜中垂直各向异性的研究

中文摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第9-19页
    1.1 磁电阻效应(Magnetoresistance Effect)第9-11页
        1.1.1 各向异性磁电阻效应(Anisotropic Magneto resistance,AMR)第9-10页
        1.1.2 巨磁电阻效应(Giant Magnetoresistance,GMR)第10页
        1.1.3 隧穿磁电阻效应(Tunneling Magnetoresistance,TMR)第10-11页
        1.1.4 庞磁电阻效应(Colossal Magneto resistance,CMR)第11页
    1.2 TMR效应的物理机制-Julliere模型第11-12页
    1.3 垂直各向异性磁性隧道结第12-16页
        1.3.1 垂直各向异性的起源第12-15页
        1.3.2 垂直各向异性隧道结(P-MTJs)在MRAM中的应用第15-16页
    1.4 具有垂直各向异性的Ta\CoFeB\MgO结构磁性薄膜第16-18页
    1.5 本论文研究目的及内容第18-19页
第二章 薄膜的制备与表征第19-29页
    2.1 薄膜的制备方法第19-23页
        2.1.1 磁控溅射的原理与方法第19-21页
        2.1.2 薄膜的生长方式第21-22页
        2.1.3 薄膜沉积系统第22-23页
        2.1.4 基片的选择及处理第23页
    2.2 薄膜的结构与性质表征方法第23-27页
        2.2.1 振动样品磁强计第23-24页
        2.2.2 原子力显微镜与磁力显微镜第24-26页
        2.2.3 电子自旋共振(Electron Spin-resonance Spectroscopy,ESR)第26-27页
    2.3 反常霍尔效应测试第27-29页
第三章 Ta\CoFeB\MgO\Ta与MgO\CoFeB\Ta结构薄膜的磁性第29-50页
    3.1 薄膜厚度对垂直各向异性的影响第29-31页
    3.2 基片\MgO\CoFeB\Ta结构薄膜的磁性研究第31-33页
    3.3 磁性隧道结结构CoFeB\MgO\CoFeB薄膜的磁性第33-35页
    3.4 真空退火对Ta(1 nm)\CoFeB(x)\MgO(1.0 nm)\Ta(1.0 nm)样品磁性的影响第35-37页
    3.5 利用反常霍尔效应测试Ta\CoFeB\MgO\Ta结构样品的面内有效饱和场第37-39页
    3.6 退火条件对Ta\CoFeB\MgO\Ta结构样品垂直各向异性的影响第39-47页
        3.6.1 不同退火温度对面内有效饱和场的影响第39-42页
        3.6.2 不同退火温度对样品饱和磁化强度M_s的影响第42-44页
        3.6.3 有效各向异性常数K_(eff)随着退火温度的变化第44-45页
        3.6.4 磁场中退火对薄膜性质的影响第45-47页
    3.7 利用铁磁共振方法测量各向异性第47-48页
    3.8 本章小节第48-50页
第四章 [Ta\CoFeB\MgO]_N多周期薄膜的磁性第50-63页
    4.1 CoFeB厚度对磁性薄膜垂直各向异性的影响第50-51页
    4.2 周期数变化对Ta\CoFeB\MgO结构薄膜垂直各向异性的影响第51-54页
    4.3 Ta(5 nm)\CoFeB(1.1 nm)\MgO(1 nm)不同重复周期的磁畴结构第54-58页
    4.4 不同Ta厚度下[Ta(x)\CoFeB(1.1 nm)\MgO(1.0 nm)]×6结构的磁性变化第58-61页
    4.5 本章小节第61-63页
第五章 主要结论及工作展望第63-65页
参考文献第65-67页
在学期间的研究成果第67-68页
致谢第68页

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