| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 涂层测厚研究现状 | 第11-16页 |
| 1.3 激光测量技术概述 | 第16-19页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 印铁涂层厚度检测系统总体设计及硬件构成 | 第21-37页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 印铁涂层厚度检测系统方案构建 | 第22-24页 |
| 2.3 印铁涂层厚度检测系统机械装置设计 | 第24-29页 |
| 2.3.1 机架设计 | 第24-25页 |
| 2.3.2 X向金属薄板传送机构设计 | 第25-26页 |
| 2.3.3 Y向扫描测厚机构设计 | 第26-29页 |
| 2.4 测控系统硬件选型设计 | 第29-36页 |
| 2.5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 印铁涂层厚度检测系统软件设计及膜厚评估算法 | 第37-52页 |
| 3.1 检测系统软件设计 | 第37-45页 |
| 3.1.1 X-Y双轴运动控制模块 | 第39-40页 |
| 3.1.2 激光双测头数据采集处理模块 | 第40-43页 |
| 3.1.3 软件界面 | 第43-45页 |
| 3.2 膜厚评估算法 | 第45-51页 |
| 3.2.1 膜厚评估算法原理 | 第45-48页 |
| 3.2.2 膜厚评估算法步骤及程序实现 | 第48-51页 |
| 3.3 本章小结 | 第51-52页 |
| 第四章 印铁涂层厚度检测系统精度分析及实验 | 第52-74页 |
| 4.1 印铁涂层厚度检测系统精度分析 | 第53-68页 |
| 4.1.1 单双测头静态测量精度实验 | 第53-55页 |
| 4.1.2 激光双测头性能分析及实验 | 第55-61页 |
| 4.1.3 机械装置精度分析及实验 | 第61-68页 |
| 4.2 印铁涂层厚度测量实验及均匀性评估 | 第68-73页 |
| 4.2.1 印铁涂层厚度测量实验 | 第68-70页 |
| 4.2.2 全平面涂层厚度均匀性评估 | 第70-73页 |
| 4.3 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 总结 | 第74-75页 |
| 5.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 英文缩写词表 | 第80-81页 |
| 作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文及参加的项目 | 第81-82页 |
| A：在国内外刊物上发表的论文 | 第81页 |
| B：已申请发明专利 | 第81页 |
| C：参加的科研项目 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |