| 摘要 | 第11-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-30页 |
| 1.1 引言 | 第14页 |
| 1.2 透明导电薄膜的研究现状 | 第14-22页 |
| 1.2.1 In_2O_3薄膜及其掺杂体系 | 第14-16页 |
| 1.2.2 ZnO薄膜及其掺杂体系 | 第16-19页 |
| 1.2.3 SnO_2薄膜及其掺杂体系 | 第19-20页 |
| 1.2.4 碳纳米材料透明导电薄膜 | 第20-22页 |
| 1.3 氧化物.金属-氧化物结构透明导电薄膜 | 第22-25页 |
| 1.4 透明导电薄膜的制备技术 | 第25-28页 |
| 1.4.1 真空蒸发法 | 第25-26页 |
| 1.4.2 化学气相沉积 | 第26页 |
| 1.4.3 溶胶-凝胶法 | 第26-27页 |
| 1.4.4 喷雾热分解法 | 第27页 |
| 1.4.5 磁控溅射法 | 第27-28页 |
| 1.5 选题意义及研究内容 | 第28-30页 |
| 第二章 实验方案及研究方法 | 第30-36页 |
| 2.1 技术路线图 | 第30-31页 |
| 2.2 薄膜电极的制备方法 | 第31-33页 |
| 2.2.1 试验用原材料及设备 | 第31-32页 |
| 2.2.2 Oxide-AlO_x-Oxide电极的制备方法 | 第32-33页 |
| 2.3 薄膜电极的分析测试方法 | 第33-36页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第33页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第33-34页 |
| 2.3.3 紫外/可见/近红外分光光度计 | 第34页 |
| 2.3.4 四探针电阻测量仪 | 第34-35页 |
| 2.3.5 霍尔效应测试系统 | 第35-36页 |
| 第三章 ITO/AlO_x/ITO透明导电薄膜的制备及表征 | 第36-54页 |
| 3.1 ITO/AlO_x薄膜微观形貌表征 | 第36-43页 |
| 3.1.1 氧掺杂前后Al薄膜微观形貌演变 | 第36-41页 |
| 3.1.2 ITO/AlO_x表面粗糙度分析 | 第41-42页 |
| 3.1.3 ITO/AlO_x薄膜表面高度分析 | 第42-43页 |
| 3.2 ITO/AlO_x/ITO薄膜电极的光学性能 | 第43-46页 |
| 3.2.1 ITO/Al/ITO的光学性能 | 第43-45页 |
| 3.2.2 ITO/AlO_x/ITO的光学性能 | 第45-46页 |
| 3.3 ITO/AlO_x/ITO薄膜电极的电学性能 | 第46-50页 |
| 3.3.1 ITO/Al/ITO的电学性能 | 第46-47页 |
| 3.3.2 ITO/AlO_x/ITO的电学性能 | 第47-50页 |
| 3.4 ITO/AlO_x/ITO薄膜电极光电性能分析 | 第50-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 ZnO/AlO_x/ZnO透明导电薄膜电极 | 第54-76页 |
| 4.1 ZnO/AlO_x薄膜的表面形貌 | 第54-62页 |
| 4.1.1 氧掺杂对ZnO/AlO_x表面形貌的影响 | 第54-58页 |
| 4.1.2 氧掺杂对ZnO/AlO_x表面粗糙度的影响 | 第58-61页 |
| 4.1.3 氧掺杂对ZnO/AlO_x表面高度的影响 | 第61-62页 |
| 4.2 氧掺杂对ZnO/AlO_x/ZnO薄膜光学性能的影响 | 第62-66页 |
| 4.2.1 ZnO/Al/ZnO的光学性能 | 第62-64页 |
| 4.2.2 ZnO/AlO_x/ZnO的光学性能 | 第64-66页 |
| 4.3 氧掺杂对ZnO/AlO_x/ZnO薄膜的电学性能 | 第66-71页 |
| 4.3.1 ZnO/Al/ZnO的电学性能 | 第66-68页 |
| 4.3.2 ZnO/AlO_x/ZnO的电学性能 | 第68-71页 |
| 4.4 ZnO/AlO_x/ZnO薄膜光电性能分析 | 第71-74页 |
| 4.5 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 附录 | 第88-89页 |
| 附件 | 第89页 |
