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钕掺杂ms/tz-BiVO4异质结可见光催化性能研究

摘要第6-8页
ABSTRACT第8-9页
第一章 绪论第13-23页
    1.1 引言第13-14页
    1.2 半导体光催化第14-16页
    1.3 半导体的结构对其光催化活性的影响以及光催化改性第16-17页
        1.3.1 半导体的结构对其光催化活性的影响第16-17页
        1.3.2 光催化改性第17页
    1.4 复合半导体第17-19页
    1.5 稀土离子掺杂与上转换发光第19-21页
    1.6 本文研究意义和主要内容第21-23页
        1.6.1 本文研究意义和主要内容第21-22页
        1.6.2 本文创新点第22-23页
第二章 实验与表征方法第23-31页
    2.1 化学试剂与实验设备第23-24页
    2.2 表征方法第24-29页
        2.2.1 X射线衍射(XRD)第24-25页
        2.2.2 X射线光电子能谱(XPS)第25-26页
        2.2.3 扫描电子显微镜(SEM)第26-27页
        2.2.4 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS)第27-28页
        2.2.5 电感耦合等离子体发光光谱分析(ICP)第28-29页
    2.3 样品光催化活性的测试第29-31页
第三章 Nd~(3+)掺杂BiVO_4的制备及其光催化性能第31-39页
    3.1 样品的制备第31-32页
    3.2 结果与讨论第32-38页
        3.2.1 晶型结构分析(XRD)第32-34页
        3.2.2 元素分析(ICP)第34页
        3.2.3 形貌分析(FE-SEM)第34-35页
        3.2.4 紫外-可见漫反射谱( UV-Vis DRS)第35-37页
        3.2.5 光催化活性测试第37-38页
    3.3 本章小结第38-39页
第四章 Nd~(3+)掺杂ms/tz-BiVO_4的制备及其光催化性能第39-47页
    4.1 样品的制备第39页
    4.2 结果与讨论第39-46页
        4.2.1 晶型结构分析(XRD)第39-41页
        4.2.2 元素分析(XPS)第41-42页
        4.2.3 形貌分析(FE-SEM)第42-43页
        4.2.4 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS)第43-44页
        4.2.5 光催化活性测试第44-46页
    4.3 本章小结第46-47页
第五章 ms/tz-BiVO_4的形貌控制合成及其光催化性能第47-54页
    5.1 样品的制备第47-48页
    5.2 结果与讨论第48-52页
        5.2.1 晶型结构分析(XRD)第48-49页
        5.2.2 形貌分析(FE-SEM)第49-50页
        5.2.3 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS)第50-51页
        5.2.4 光催化活性测试第51-52页
    5.3 本章小结第52-54页
第六章 总结与展望第54-57页
    6.1 总结第54-56页
    6.2 展望第56-57页
参考文献第57-64页
致谢第64-65页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第65页

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