摘要 | 第6-8页 |
ABSTRACT | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第13-23页 |
1.1 引言 | 第13-14页 |
1.2 半导体光催化 | 第14-16页 |
1.3 半导体的结构对其光催化活性的影响以及光催化改性 | 第16-17页 |
1.3.1 半导体的结构对其光催化活性的影响 | 第16-17页 |
1.3.2 光催化改性 | 第17页 |
1.4 复合半导体 | 第17-19页 |
1.5 稀土离子掺杂与上转换发光 | 第19-21页 |
1.6 本文研究意义和主要内容 | 第21-23页 |
1.6.1 本文研究意义和主要内容 | 第21-22页 |
1.6.2 本文创新点 | 第22-23页 |
第二章 实验与表征方法 | 第23-31页 |
2.1 化学试剂与实验设备 | 第23-24页 |
2.2 表征方法 | 第24-29页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
2.2.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
2.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
2.2.4 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS) | 第27-28页 |
2.2.5 电感耦合等离子体发光光谱分析(ICP) | 第28-29页 |
2.3 样品光催化活性的测试 | 第29-31页 |
第三章 Nd~(3+)掺杂BiVO_4的制备及其光催化性能 | 第31-39页 |
3.1 样品的制备 | 第31-32页 |
3.2 结果与讨论 | 第32-38页 |
3.2.1 晶型结构分析(XRD) | 第32-34页 |
3.2.2 元素分析(ICP) | 第34页 |
3.2.3 形貌分析(FE-SEM) | 第34-35页 |
3.2.4 紫外-可见漫反射谱( UV-Vis DRS) | 第35-37页 |
3.2.5 光催化活性测试 | 第37-38页 |
3.3 本章小结 | 第38-39页 |
第四章 Nd~(3+)掺杂ms/tz-BiVO_4的制备及其光催化性能 | 第39-47页 |
4.1 样品的制备 | 第39页 |
4.2 结果与讨论 | 第39-46页 |
4.2.1 晶型结构分析(XRD) | 第39-41页 |
4.2.2 元素分析(XPS) | 第41-42页 |
4.2.3 形貌分析(FE-SEM) | 第42-43页 |
4.2.4 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS) | 第43-44页 |
4.2.5 光催化活性测试 | 第44-46页 |
4.3 本章小结 | 第46-47页 |
第五章 ms/tz-BiVO_4的形貌控制合成及其光催化性能 | 第47-54页 |
5.1 样品的制备 | 第47-48页 |
5.2 结果与讨论 | 第48-52页 |
5.2.1 晶型结构分析(XRD) | 第48-49页 |
5.2.2 形貌分析(FE-SEM) | 第49-50页 |
5.2.3 紫外-可见漫反射谱(UV-Vis DRS) | 第50-51页 |
5.2.4 光催化活性测试 | 第51-52页 |
5.3 本章小结 | 第52-54页 |
第六章 总结与展望 | 第54-57页 |
6.1 总结 | 第54-56页 |
6.2 展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第65页 |