铀中杂质的微流控分离技术研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-22页 |
| 1.0 微流控技术简介 | 第7页 |
| 1.1 微流控分离技术 | 第7-11页 |
| 1.1.1 基本原理 | 第7-8页 |
| 1.1.2 主要特点 | 第8-9页 |
| 1.1.3 研究现状 | 第9-11页 |
| 1.1.4 面临的主要问题 | 第11页 |
| 1.2 微芯片中的流体流动 | 第11-19页 |
| 1.2.1 层流 | 第12-17页 |
| 1.2.2 分段流 | 第17-18页 |
| 1.2.3 乳液 | 第18-19页 |
| 1.3 离子检测及分析 | 第19-20页 |
| 1.4 本文研究主要内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第20页 |
| 1.4.2 研究方法 | 第20-22页 |
| 第二章 实验设备及研究方法 | 第22-31页 |
| 2.1 实验装置 | 第22-27页 |
| 2.1.1 通道尺寸设计 | 第22-23页 |
| 2.1.2 通道长度及构型设计 | 第23-25页 |
| 2.1.3 微芯片衔接装置 | 第25-26页 |
| 2.1.4 驱动方式 | 第26-27页 |
| 2.2 实验设备及试剂 | 第27-28页 |
| 2.3 分析检测方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 紫外分光光度计 | 第28-29页 |
| 2.3.2 电感耦合等离子体质谱 | 第29-31页 |
| 第三章 微芯片两相界面稳定性研究 | 第31-40页 |
| 3.1 实验方法 | 第31-33页 |
| 3.1.1 物理导流法 | 第31-32页 |
| 3.1.2 OTS化学修饰法 | 第32-33页 |
| 3.2 微芯片界面稳定性研究 | 第33-39页 |
| 3.2.1 两相稳定情况 | 第33-35页 |
| 3.2.2 两相稳定影响因素 | 第35-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 微流控技术分离铀的实验研究 | 第40-49页 |
| 4.1 萃取条件 | 第40-41页 |
| 4.2 微流控萃取分离实验 | 第41-42页 |
| 4.2.1 溶液配制 | 第41页 |
| 4.2.2 标准曲线绘制 | 第41-42页 |
| 4.2.3 萃取实验步骤 | 第42页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第42-47页 |
| 4.3.1 微通道两相接触时间影响 | 第43-44页 |
| 4.3.2 芯片长度影响 | 第44页 |
| 4.3.3 通道横截面积影响 | 第44-45页 |
| 4.3.4 萃取剂影响 | 第45-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 微流控技术分离铀中杂质的实验研究 | 第49-58页 |
| 5.1 实验部分 | 第49-51页 |
| 5.1.1 质谱的相关参数及优化 | 第49-50页 |
| 5.1.2 试剂与标准溶液 | 第50-51页 |
| 5.2 线性关系 | 第51-52页 |
| 5.3 标准样品测量 | 第52-55页 |
| 5.3.1 实验步骤 | 第52-53页 |
| 5.3.2 杂质测量结果 | 第53-55页 |
| 5.4 加标回收实验 | 第55-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第六章 结论与讨论 | 第58-60页 |
| 6.1 结论 | 第58-59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录 | 第65页 |
