| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·扫描电子显微镜简介 | 第12-14页 |
| ·扫描电子显微镜的原理 | 第12-14页 |
| ·扫描电子显微镜的发展和应用 | 第14页 |
| ·电子与固体相互作用 | 第14-18页 |
| ·电子非相干散射的Monte Carlo模拟方法 | 第15-16页 |
| ·电子相干散射的量子力学方法 | 第16-18页 |
| ·二次电子成像 | 第18-30页 |
| ·二次电子产生机制的研究 | 第18-21页 |
| ·二次电子图像分辨率和锐度研究 | 第21-23页 |
| ·原子级分辨二次电子像 | 第23-26页 |
| ·入射电子束形状对二次电子成像质量的影响 | 第26-30页 |
| 第二章 电子散射的Monte Carlo模拟方法 | 第30-50页 |
| ·经典Monte Carlo模型 | 第30-41页 |
| ·电子非相干散射理论 | 第30-35页 |
| ·经典Monte Carlo模型的建立 | 第35-38页 |
| ·样品三维复杂结构的构建 | 第38-41页 |
| ·量子Monte Carlo模型 | 第41-50页 |
| ·玻姆力学的发展 | 第41-42页 |
| ·玻姆力学的理论基础 | 第42-44页 |
| ·玻姆力学的应用 | 第44-50页 |
| 第三章 原子级分辨二次电子像的量子Monte Carlo模拟 | 第50-70页 |
| ·背景介绍 | 第50-52页 |
| ·量子Monte Carlo方法 | 第52-57页 |
| ·玻姆量子轨迹理论 | 第52-53页 |
| ·内壳层激发的类氢原子模型 | 第53-55页 |
| ·沿量子轨迹激发电子的抽样 | 第55-56页 |
| ·级联过程的传统Monte Carlo抽样 | 第56-57页 |
| ·结果和讨论 | 第57-67页 |
| ·玻姆量子轨迹 | 第57-60页 |
| ·二次电子的产生和出射 | 第60-62页 |
| ·原子级分辨二次电子成像模拟 | 第62-67页 |
| ·本章小结 | 第67-70页 |
| 第四章 评价二次电子图像锐度测量方法的Monte Carlo模拟 | 第70-84页 |
| ·背景介绍 | 第70-72页 |
| ·理论模型 | 第72-73页 |
| ·二次电子图像锐度测量方法 | 第73页 |
| ·结果和讨论 | 第73-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第五章 入射电子束形状对二次电子成像影响的模拟 | 第84-98页 |
| ·电子光学系统 | 第84-86页 |
| ·几何光学 | 第86-90页 |
| ·波动光学 | 第90-96页 |
| ·本章小结 | 第96-98页 |
| 第六章 介电函数对二次电子产额和能谱影响的模拟 | 第98-108页 |
| ·背景介绍 | 第98-99页 |
| ·MELF-GOS模型 | 第99页 |
| ·结果与讨论 | 第99-106页 |
| ·本章小结 | 第106-108页 |
| 第七章 总结 | 第108-112页 |
| 参考文献 | 第112-126页 |
| 致谢 | 第126-130页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第130-131页 |