电磁场协同处理电厂循环冷却水阻垢实验及机理研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·电厂循环冷却水水质标准 | 第10-11页 |
| ·循环冷却水水垢来源及处理技术 | 第11-15页 |
| ·循环冷却水水垢种类来源及危害 | 第11-13页 |
| ·循环冷却水阻垢方法及国内外研究现状 | 第13-15页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 循环冷却水阻垢处理装置 | 第16-38页 |
| ·双通道工业循环冷却水分析实验台 | 第16-18页 |
| ·实验台简介 | 第16-17页 |
| ·实验原理 | 第17-18页 |
| ·实验台改进设计 | 第18-25页 |
| ·电磁流量计的选型及安装 | 第18-20页 |
| ·蠕动泵的选型及安装 | 第20-21页 |
| ·密封接头及垫片的改进设计 | 第21-23页 |
| ·测温筒的改进设计 | 第23页 |
| ·稳压电源的安装 | 第23-25页 |
| ·实验台温度数据自动采集系统的改进 | 第25-32页 |
| ·数据采集系统基本功能介绍 | 第25-30页 |
| ·温度数据自动采集系统通道改进 | 第30-32页 |
| ·磁电协同式工业循环冷却水阻垢处理器 | 第32-38页 |
| ·高压静电场部分设计 | 第33-34页 |
| ·高压静电场能量密度计算 | 第34-36页 |
| ·脉冲磁场能的计算 | 第36-38页 |
| 第三章 磁电协同作用于循环冷却水的阻垢实验 | 第38-60页 |
| ·实验水质的分析及配制 | 第38-39页 |
| ·实验用水分析方法 | 第38页 |
| ·实验用水配置 | 第38-39页 |
| ·实验用水水质的分析及配置 | 第39-40页 |
| ·实验中钙离子和碱度的损失及补充 | 第39页 |
| ·离子补充药品及配制 | 第39-40页 |
| ·磁电协同作用于工业循环冷却水阻垢实验 | 第40-45页 |
| ·实验方法与仪器 | 第40-41页 |
| ·阻垢率的计算公式 | 第41-42页 |
| ·正交实验方案设计 | 第42-44页 |
| ·正交实验结果 | 第44-45页 |
| ·正交实验结果分析 | 第45-52页 |
| ·污垢热阻及阻垢率曲线 | 第45-49页 |
| ·正交实验结果分析 | 第49-52页 |
| ·实验水质指标变化与阻垢率的关系 | 第52-60页 |
| ·水质指标变化的影响因素分析 | 第52-56页 |
| ·水质指标变化与残余硬度法及重量法阻垢率的关系 | 第56-60页 |
| 第四章 垢样的SEM、XRD分析 | 第60-92页 |
| ·样品试片的制备 | 第60页 |
| ·垢样的电镜(SEM)扫描 | 第60-65页 |
| ·扫描电镜参数 | 第60-61页 |
| ·垢样的电镜扫描(SEM)照片 | 第61-65页 |
| ·垢样的X射线衍射(XRD) | 第65-66页 |
| ·X射线衍射仪参数 | 第65页 |
| ·XRD试片制备 | 第65页 |
| ·垢样各物相含量的计算公式 | 第65-66页 |
| ·垢样的X射线衍射图谱及分析数据 | 第66-76页 |
| ·垢样的X射线衍射图谱 | 第66-71页 |
| ·垢样的X射线衍射数据 | 第71-76页 |
| ·垢样的XRD射线衍射结果分析 | 第76-81页 |
| ·典型方解石 | 第76-77页 |
| ·典型文石 | 第77-78页 |
| ·典型碳酸钙镁石 | 第78-79页 |
| ·阻垢率与垢样物相百分含量的关系 | 第79-80页 |
| ·碳酸钙镁石对垢样物相百分含量及阻垢率的影响 | 第80-81页 |
| ·阻垢率与晶胞参数的关系 | 第81-86页 |
| ·阻垢率与晶粒尺寸的关系 | 第81页 |
| ·阻垢率与峰面积的关系 | 第81-82页 |
| ·碳酸钙镁石与晶面间距的关系 | 第82-83页 |
| ·循环水流速与晶面间距的关系 | 第83-84页 |
| ·硬垢与软垢 | 第84-86页 |
| ·能谱(EDS)分析 | 第86-90页 |
| ·能谱(EDS)图 | 第86-88页 |
| ·能谱(EDS)分析 | 第88-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 第五章 高压静电及变频脉冲电场阻垢机理分析 | 第92-99页 |
| ·电磁场能量对水分子的影响 | 第92-93页 |
| ·电磁场对水垢晶型生长的促进与抑制作用 | 第93-96页 |
| ·水垢晶体的生长 | 第93-94页 |
| ·晶核生长临界半径 | 第94-95页 |
| ·电磁场能量对晶体生长的影响 | 第95-96页 |
| ·周期键链理论对水垢晶型的分析 | 第96-98页 |
| ·晶面间距变化对晶体的生长速度的影响 | 第98-99页 |
| 第六章 结论与展望 | 第99-102页 |
| ·结论 | 第99-100页 |
| ·建议 | 第100页 |
| ·展望 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-109页 |
| 致谢 | 第109-110页 |
| 在读期间取得的科研成果 | 第110页 |
