| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-37页 |
| 1. 光催化材料研究的背景 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化剂的作用机理 | 第10-11页 |
| 2. 有机半导体石墨烯相C_3N_4(g-C_3N_4)的制备与研究 | 第11-24页 |
| ·C_3N_4的结构 | 第11-12页 |
| ·合成方法 | 第12-13页 |
| ·C_3N_4的性质 | 第13-15页 |
| ·热稳定性 | 第13页 |
| ·化学稳定性 | 第13页 |
| ·光电性质 | 第13-15页 |
| ·对C_3N_4的形貌控制及功能化修饰 | 第15-22页 |
| ·对C_3N_4的形貌控制 | 第15-17页 |
| ·对C_3N_4的化学功能化修饰 | 第17-22页 |
| ·C_3N_4材料的应用 | 第22-24页 |
| ·C_3N_4在光催化分解水中的应用 | 第23-24页 |
| ·C_3N_4在降解污染物中的应用 | 第24页 |
| 3. 无机半导体TiO_2光催化材料 | 第24-30页 |
| ·孔二氧化钛的合成 | 第24-25页 |
| ·见光活性的二氧化钛光催化剂的研究 | 第25-30页 |
| ·贵金属沉积 | 第26页 |
| ·复合半导体 | 第26-27页 |
| ·离子掺杂 | 第27-29页 |
| ·光敏化 | 第29页 |
| ·其他改性方法 | 第29-30页 |
| 4. 本论文指导思想 | 第30-32页 |
| 参考文献 | 第32-37页 |
| 第二章 实验部分 | 第37-40页 |
| 1. 试剂与药品 | 第37页 |
| 2. 仪器与测试方法 | 第37-40页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第37页 |
| ·比表面和孔结构的测定 | 第37-38页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第38页 |
| ·样品的红外光谱(FT-IR)测定 | 第38页 |
| ·紫外—可见漫反射谱(UV-Vis diffuse reflectance spectroscopy) | 第38页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第38页 |
| ·拉曼光谱(Raman Spectroscopy) | 第38页 |
| ·光催化活性评价 | 第38-40页 |
| ·MO降解测试 | 第38-39页 |
| ·MB降解测试 | 第39-40页 |
| 第三章 苯甲酸衍生物修饰对C_3N_4光降解性能的研究 | 第40-53页 |
| 1. 引言 | 第40-41页 |
| 2. 实验部分 | 第41页 |
| ·g-C_3N_4碳氮高分子材料(CNP)的合成 | 第41页 |
| ·苯甲酸衍生物修饰的CNP | 第41页 |
| 3. 结果与讨论 | 第41-49页 |
| ·实验产物表征 | 第41-46页 |
| ·X-射线粉末衍射 | 第41-43页 |
| ·UV-Vis漫反射光谱 | 第43-44页 |
| ·FT-IR谱图 | 第44-45页 |
| ·XPS谱图 | 第45-46页 |
| ·光催化性能的研究 | 第46-49页 |
| ·光催化性能评价 | 第46-47页 |
| ·光催化性能的理论研究 | 第47-49页 |
| 4. 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 Mo掺杂介孔二氧化钛的合成与表征 | 第53-67页 |
| 1. 引言 | 第53-54页 |
| 2. 实验部分 | 第54页 |
| ·样品的合成 | 第54页 |
| ·样品的焙烧 | 第54页 |
| ·光催化降解亚甲基兰溶液 | 第54页 |
| 3. 结果与讨论 | 第54-64页 |
| ·样品的结构与形貌 | 第54-61页 |
| ·X-射线粉末衍射(XRD) | 第54-56页 |
| ·N_2吸附-脱附等温线 | 第56-57页 |
| ·透射电镜表征(TEM) | 第57-58页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第58-59页 |
| ·Raman光谱表征 | 第59-60页 |
| ·紫外可见漫反射光谱(UV-Vis) | 第60-61页 |
| ·材料的光催化活性表征 | 第61-64页 |
| ·光催化活性分析 | 第61-63页 |
| ·光催化机理分析 | 第63-64页 |
| 4. 本章小结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 硕士期间发表的论文和专利申请 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
