中文摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 前言 | 第12-19页 |
·抗菌材料研究的意义 | 第12页 |
·抗菌材料的分类 | 第12-15页 |
·无机抗菌材料 | 第13-14页 |
·有机抗菌材料 | 第14-15页 |
·天然抗菌剂 | 第15页 |
·抗菌材料的应用 | 第15-17页 |
·抗菌涂料 | 第15-16页 |
·抗菌纤维 | 第16页 |
·在水处理方面的应用 | 第16-17页 |
·在医疗卫生方面的应用 | 第17页 |
·本课题研究的意义以及创新性 | 第17-19页 |
第二章 卤胺高分子纳米抗菌材料的合成、表征及抗菌性能研究 | 第19-35页 |
·引言 | 第19-20页 |
·实验部分 | 第20-23页 |
·试剂 | 第20-21页 |
·测试仪器 | 第21页 |
·实验过程 | 第21-23页 |
·苯乙烯与丙烯酸混聚物纳米粒子(PSA NPs)的合成 | 第21页 |
·卤胺前置体高分子纳米粒子(PSA-NH NPs)的合成 | 第21页 |
·卤胺高分子纳米抗菌材料(PSA-N-Cl NPs)的合成 | 第21-22页 |
·卤胺高分子纳米抗菌材料(PSA-N-Cl NPs)氧化态氯含量分析 | 第22页 |
·卤胺高分子纳米抗菌材料(PSA-N-Cl NPs)稳定性实验 | 第22页 |
·卤胺高分子纳米抗菌材料(PSA-N-Cl NPs)抗菌性能的评价 | 第22-23页 |
·结果与讨论 | 第23-34页 |
·合成 PSA NPs 时苯乙烯与丙烯酸比例的选择 | 第23-24页 |
·合成 PSA-NH NPs 条件的选择 | 第24-27页 |
·催化剂的选择 | 第25页 |
·叔丁胺(t-Bu-NH2)与 PSA NPs 比例的选择 | 第25-26页 |
·反应时间的选择 | 第26-27页 |
·反应温度的选择 | 第27页 |
·PSA-NH NPs 氯化条件的选择 | 第27-28页 |
·反应时间的选择 | 第27-28页 |
·PSA-N-Cl NPs 稳定性 | 第28-29页 |
·表征 | 第29-31页 |
·场发射扫描电镜(FE-SEM)分析 | 第29页 |
·比表面积和孔容积(BET)分析 | 第29-30页 |
·傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第30-31页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第31页 |
·抗菌实验结果分析 | 第31-34页 |
·PSA-N-Cl NPs 的初步抗菌性能分析 | 第31-32页 |
·PSA-N-Cl NPs 与细菌的接触时间对抑菌率的影响 | 第32-33页 |
·PSA-N-Cl NPs 的浓度对抑菌率的影响 | 第33-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第三章 卤胺高分子磁性纳米抗菌材料的合成、表征及抗菌性能研究 | 第35-49页 |
·引言 | 第35-36页 |
·实验部分 | 第36-39页 |
·试剂 | 第36页 |
·测试仪器 | 第36页 |
·实验过程 | 第36-39页 |
·Fe_3O_4磁性纳米粒子(Fe_3O_4NPs)的合成 | 第36页 |
·苯乙烯与丙烯酸混聚物磁性纳米粒子(PSA@Fe_3O_4NPs)的合成 | 第36-37页 |
·卤胺前置体高分子磁性纳米粒子(PSA-NH@Fe_3O_4NPs)的合成 | 第37页 |
·卤胺高分子磁性纳米抗菌材料(PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs)的合成 | 第37页 |
·卤胺高分子磁性纳米抗菌材料(PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs)氧化态氯含量分析 | 第37页 |
·卤胺高分子磁性纳米抗菌材料(PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs)稳定性实验 | 第37页 |
·卤胺高分子磁性纳米抗菌材料(PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs)抗菌性能的评价 | 第37-39页 |
·结果与讨论 | 第39-48页 |
·合成 PSA@Fe_3O_4NPs 时 PSA 与 Fe_3O_4比例的选择 | 第39页 |
·PSA-NH@Fe_3O_4NPs 合成条件的选择 | 第39-41页 |
·反应时间的选择 | 第39-40页 |
·反应温度的选择 | 第40-41页 |
·PSA@Fe_3O_4NPs 与叔丁胺(t-Bu-NH2)比例的选择 | 第41页 |
·PSA-NH@Fe_3O_4NPs 氯化条件的选择 | 第41-42页 |
·反应时间的选择 | 第41-42页 |
·PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs 稳定性 | 第42-43页 |
·表征 | 第43-45页 |
·场发射扫描电镜(FE-SEM)分析 | 第43页 |
·比表面积和孔容积(BET)分析 | 第43-44页 |
·傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第44-45页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第45页 |
·抗菌实验结果分析 | 第45-48页 |
·PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs 的初步抗菌性能分析 | 第45-46页 |
·PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs 与细菌的接触时间对抑菌率的影响 | 第46-47页 |
·PSA-N-Cl@Fe_3O_4NPs 浓度对抑菌率的影响 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第四章 大孔交联卤胺高分子抗菌树脂材料的合成、表征及其抗菌性能研究 | 第49-62页 |
·引言 | 第49-50页 |
·实验部分 | 第50-52页 |
·试剂 | 第50页 |
·测试仪器 | 第50页 |
·实验过程 | 第50-52页 |
·大孔交联丙烯酸与苯乙烯混聚物(PSA)树脂的合成 | 第50-51页 |
·大孔交联卤胺前置体高分子(PSA-NH)树脂的合成 | 第51页 |
·大孔交联卤胺高分子(PSA-N-Cl)抗菌树脂材料的合成 | 第51页 |
·大孔交联卤胺高分子(PSA-N-Cl)抗菌树脂材料的氧化态氯滴定过程分析 | 第51页 |
·大孔交联卤胺高分子(PSA-N-Cl)抗菌树脂材料稳定性实验 | 第51页 |
·大孔交联卤胺高分子(PSA-N-Cl)抗菌树脂材料抗菌性能的评价 | 第51-52页 |
·结果与讨论 | 第52-60页 |
·合成 PSA 树脂最佳实验条件的选择 | 第52-53页 |
·合成 PSA-NH 树脂条件的选择 | 第53-55页 |
·反应物 PSA 树脂与叔丁胺(t-Bu-NH_2)比例的选择 | 第53-54页 |
·反应时间的选择 | 第54-55页 |
·反应温度的选择 | 第55页 |
·PSA-NH 树脂氯化条件的选择 | 第55-56页 |
·反应时间的选择 | 第55-56页 |
·PSA-N-Cl 抗菌树脂材料的稳定性 | 第56-57页 |
·表征 | 第57-60页 |
·场发射扫描电镜(FE-SEM)分析 | 第57-58页 |
·比表面积和孔容积(BET)分析 | 第58页 |
·傅里叶红外光谱(FT-IR)分析 | 第58-59页 |
·X-射线光电子能谱(XPS)分析 | 第59-60页 |
·抗菌实验结果分析 | 第60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
第五章 全文总结 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
附录 | 第73页 |