目录 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第9-31页 |
·TCO 概述 | 第9-11页 |
·In_2O_3基掺杂体系 | 第11-15页 |
·ZnO 基掺杂体系 | 第15-19页 |
·SnO_2基掺杂体系 | 第19-23页 |
·制备方法 | 第23-27页 |
·应用前景 | 第27-29页 |
·选题依据 | 第29-31页 |
第二章 实验设备与测试方法 | 第31-38页 |
·实验设备 | 第31-33页 |
·实验材料 | 第33-34页 |
·样品的测试手段 | 第34-38页 |
第三章 磁控溅射制备 In_2O_3透明导电薄膜 | 第38-71页 |
·In_2O_3透明导电薄膜的制备 | 第38-40页 |
·溅射时间对透明导电薄膜性质影响 | 第40-53页 |
·溅射功率对透明导电薄膜性质影响 | 第53-57页 |
·功率和时间的改变(厚度不变)对透明导电薄膜性质影响 | 第57-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
第四章 全文总结 | 第71-73页 |
·本文的主要研究结果 | 第71-72页 |
·对今后工作的建议 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-77页 |
论文作者在学期间发表的学术论文目录 | 第77-78页 |
致谢 | 第78页 |