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In2O3基透明导电薄膜的制备与性质研究

目录第1-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第一章 绪论第9-31页
   ·TCO 概述第9-11页
   ·In_2O_3基掺杂体系第11-15页
   ·ZnO 基掺杂体系第15-19页
   ·SnO_2基掺杂体系第19-23页
   ·制备方法第23-27页
   ·应用前景第27-29页
   ·选题依据第29-31页
第二章 实验设备与测试方法第31-38页
   ·实验设备第31-33页
   ·实验材料第33-34页
   ·样品的测试手段第34-38页
第三章 磁控溅射制备 In_2O_3透明导电薄膜第38-71页
   ·In_2O_3透明导电薄膜的制备第38-40页
   ·溅射时间对透明导电薄膜性质影响第40-53页
   ·溅射功率对透明导电薄膜性质影响第53-57页
   ·功率和时间的改变(厚度不变)对透明导电薄膜性质影响第57-69页
   ·本章小结第69-71页
第四章 全文总结第71-73页
   ·本文的主要研究结果第71-72页
   ·对今后工作的建议第72-73页
参考文献第73-77页
论文作者在学期间发表的学术论文目录第77-78页
致谢第78页

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