| 目录 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-31页 |
| ·TCO 概述 | 第9-11页 |
| ·In_2O_3基掺杂体系 | 第11-15页 |
| ·ZnO 基掺杂体系 | 第15-19页 |
| ·SnO_2基掺杂体系 | 第19-23页 |
| ·制备方法 | 第23-27页 |
| ·应用前景 | 第27-29页 |
| ·选题依据 | 第29-31页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第31-38页 |
| ·实验设备 | 第31-33页 |
| ·实验材料 | 第33-34页 |
| ·样品的测试手段 | 第34-38页 |
| 第三章 磁控溅射制备 In_2O_3透明导电薄膜 | 第38-71页 |
| ·In_2O_3透明导电薄膜的制备 | 第38-40页 |
| ·溅射时间对透明导电薄膜性质影响 | 第40-53页 |
| ·溅射功率对透明导电薄膜性质影响 | 第53-57页 |
| ·功率和时间的改变（厚度不变）对透明导电薄膜性质影响 | 第57-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第四章 全文总结 | 第71-73页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第71-72页 |
| ·对今后工作的建议 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 论文作者在学期间发表的学术论文目录 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |