首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--光电子技术、激光技术论文--激光技术、微波激射技术论文--激光的应用论文

激光干涉诱导表面微结构对电化学刻蚀InP行为影响的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第7-15页
   ·引言第7-8页
   ·电化学刻蚀InP的发展现状第8-13页
   ·论文研究的目的和内容第13-15页
第二章 电化学刻蚀方法制备多孔InP第15-33页
   ·电化学刻蚀InP的工艺流程第15-16页
   ·电流对多孔InP形貌的影响第16-25页
   ·温度对电化学刻蚀InP的影响第25-31页
   ·本章小结第31-33页
第三章 激光干涉模拟与InP表面四光束激光干涉直写光刻第33-38页
   ·激光干涉光刻技术第33页
   ·四光束激光干涉原理与模拟第33-35页
   ·InP表面四光束激光干涉直写光刻第35-37页
   ·本章小结第37-38页
第四章 电化学刻蚀激光干涉诱导表面微结构后的InP第38-43页
   ·表面微结构对电化学刻蚀InP的V-t曲线的影响第38-40页
   ·表面微结构对多孔InP表面形貌的影响第40-41页
   ·表面微结构对多孔InP截面形貌的影响第41-42页
   ·本章小结第42-43页
结论第43-44页
致谢第44-45页
参考文献第45-46页

论文共46页,点击 下载论文
上一篇:柔性纳米二氧化钛薄膜的制备及其光催化性能的研究
下一篇:荧光光谱法检测农药的研究