无吸收光栅X射线微分干涉相衬成像理论与实验研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 引言 | 第10-26页 |
| ·课题研究背景和意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究与发展现状 | 第11-22页 |
| ·可见光相衬成像 | 第11-14页 |
| ·X 射线相衬成像 | 第14-22页 |
| ·X 射线源和探测器 | 第22-24页 |
| ·X 射线源 | 第22页 |
| ·X 射线探测器 | 第22-23页 |
| ·大视场高分辨 X 射线探测器 | 第23-24页 |
| ·本论文的研究内容和方法 | 第24-25页 |
| ·论文结构安排 | 第25-26页 |
| 2 X 射线光栅微分干涉相衬成像系统理论分析 | 第26-46页 |
| ·X 射线与物质的相互作用 | 第26-30页 |
| ·X 射线与物质相互作用产生的效应 | 第26-28页 |
| ·X 射线的吸收与折射 | 第28-29页 |
| ·X 射线透过物质之后折射角和相移的关系 | 第29-30页 |
| ·X 射线折射角的探测方法 | 第30-39页 |
| ·光场的相干性 | 第31-32页 |
| ·光栅 Talbot 效应 | 第32-35页 |
| ·相位光栅 Talbot 自成像 | 第35-39页 |
| ·Talbot 效应测量物体相位信息 | 第39-42页 |
| ·X 射线光栅微分干涉相衬成像 | 第42-46页 |
| 3 无吸收光栅 X 射线微分干涉相衬成像 | 第46-70页 |
| ·吸收光栅的限制 | 第46-54页 |
| ·常规 X 射线源 | 第46-48页 |
| ·轫致辐射和特征辐射 | 第48-49页 |
| ·源光栅和分析光栅的限制 | 第49-54页 |
| ·系统的关键器件 | 第54-58页 |
| ·阵列结构阳极 X 射线源 | 第54-55页 |
| ·相位光栅 | 第55-56页 |
| ·具有分析光栅功能的结构化转换屏 | 第56-58页 |
| ·实验系统设计 | 第58-64页 |
| ·实验系统设计原理 | 第58-61页 |
| ·X 射线源的调节系统 | 第61页 |
| ·相位光栅和分析光栅微位移调节系统 | 第61页 |
| ·压电陶瓷微位移系统 | 第61-62页 |
| ·光锥耦合式 X 射线探测器 | 第62-63页 |
| ·光栅平行调节系统的设计 | 第63-64页 |
| ·实验过程和实验结果 | 第64-70页 |
| 4 光栅微分干涉相衬成像系统的成像视场分析 | 第70-86页 |
| ·源光栅微分干涉相衬成像系统的视场分析 | 第70-76页 |
| ·基于菲涅尔衍射原理的理论分析 | 第70-73页 |
| ·光栅器件的傅里叶展开系数 | 第73-74页 |
| ·数值计算结果 | 第74-76页 |
| ·阵列结构阳极 X 射线相衬成像系统的视场分析 | 第76-86页 |
| ·阵列结构阳极 X 射线相衬成像的理论分析 | 第76-78页 |
| ·数值计算结果 | 第78-79页 |
| ·大周期阵列结构阳极数值计算结果 | 第79-81页 |
| ·不同倾斜角阵列结构阳极数值计算结果 | 第81-83页 |
| ·阶梯阵列结构阳极数值计算结果 | 第83-86页 |
| 5 相衬图像恢复算法的理论分析与实验研究 | 第86-106页 |
| ·傅里叶变换恢复相位信息原理 | 第86-90页 |
| ·傅里叶变换方法理论分析 | 第86-87页 |
| ·傅里叶变换方法恢复相位数值模拟 | 第87-90页 |
| ·多步相移法原理 | 第90-100页 |
| ·多步相移法理论分析 | 第90-94页 |
| ·相移误差对多步相移算法的影响 | 第94-95页 |
| ·相移误差的校正 | 第95-96页 |
| ·多步相移方法的计算机模拟 | 第96-98页 |
| ·噪声对相位恢复方法的影响 | 第98-99页 |
| ·相位恢复算法小结 | 第99-100页 |
| ·多步相移方法在 X 射线相衬成像系统中的应用 | 第100-106页 |
| ·五步相移法恢复 X 射线相衬图像 | 第100-101页 |
| ·两步相移算法 | 第101-102页 |
| ·基于光栅位移曲线的两步相移算法 | 第102-106页 |
| 6 总结与展望 | 第106-110页 |
| ·总结 | 第106-108页 |
| ·展望 | 第108-110页 |
| 参考文献 | 第110-116页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第116-117页 |
