| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-42页 |
| ·光学天线研究背景 | 第14-15页 |
| ·光学天线基本理论 | 第15-21页 |
| ·天线体系理论模型 | 第15-17页 |
| ·天线特征参数 | 第17-19页 |
| ·互易性原理 | 第19-21页 |
| ·光学天线与金属局域表面等离子体共振 | 第21-29页 |
| ·金属介电函数模型 | 第21-23页 |
| ·准静电近似理论 | 第23-26页 |
| ·Mie理论 | 第26-27页 |
| ·局域表面等离子体共振的物理意义 | 第27-29页 |
| ·光学天线的制备方法 | 第29-31页 |
| ·电子束刻蚀 | 第29-30页 |
| ·聚焦离子束刻蚀 | 第30页 |
| ·化学合成及自组装方法 | 第30-31页 |
| ·光学天线的应用研究进展 | 第31-35页 |
| ·光学天线调控发光过程 | 第31-33页 |
| ·分子探测光谱学 | 第33-34页 |
| ·近场光学显微与近场光刻 | 第34页 |
| ·太阳能电池 | 第34-35页 |
| ·本论文主要研究工作 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 第二章 银纳米球帽-纳米小孔耦合天线结构的SERS研究 | 第42-66页 |
| ·表面增强拉曼散射(SERS)基本原理 | 第42-47页 |
| ·常规拉曼散射(NRS) | 第42-44页 |
| ·表面增强拉曼散射(SERS) | 第44-45页 |
| ·光学天线增强SERS的电磁理论机制 | 第45-47页 |
| ·耦合型金属纳米天线结构的研究背景 | 第47-49页 |
| ·银纳米球帽的光学性质 | 第49-56页 |
| ·纳米球刻蚀法 | 第49-50页 |
| ·银纳米球帽的光学性质 | 第50-56页 |
| ·银纳米球帽-纳米小孔耦合结构 | 第56-62页 |
| ·制备方法与实验装置 | 第57-58页 |
| ·SERS效应分析 | 第58-60页 |
| ·SERS效应与耦合间隙的关系 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第三章 银纳米立方体-银纳米小孔阵列耦合天线结构SERS研究 | 第66-86页 |
| ·研究背景 | 第66-67页 |
| ·银纳米立方体的制备 | 第67-69页 |
| ·制备原理 | 第67-68页 |
| ·制备步骤 | 第68-69页 |
| ·银纳米小孔阵列的制备 | 第69-74页 |
| ·AAO模板的制备方法 | 第69-71页 |
| ·AAO模板形貌优化与特征尺寸调节 | 第71-73页 |
| ·利用AAO模板制备银纳米小孔阵列 | 第73-74页 |
| ·银纳米立方体-纳米小孔阵列耦合天线结构的SERS研究 | 第74-81页 |
| ·制备方法与实验装置 | 第74-75页 |
| ·耦合效应分析 | 第75-78页 |
| ·SERS EF影响因素 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 第四章 基于蝴蝶结形光学天线的近场扫描超分辨光刻研究 | 第86-108页 |
| ·近场扫描超分辨光刻概述 | 第86-88页 |
| ·蝴蝶结形光学天线的光学性质 | 第88-93页 |
| ·近场扫描光刻实验装置与光刻过程 | 第93-95页 |
| ·实验装置 | 第93页 |
| ·光刻过程 | 第93-95页 |
| ·掩膜板结构与制备 | 第95-96页 |
| ·MICROPOSIT S1805型光刻胶特性研究 | 第96-100页 |
| ·光刻胶薄膜制备 | 第96-97页 |
| ·光刻胶特性参数 | 第97-100页 |
| ·近场扫描超分辨光刻实验结果 | 第100-104页 |
| ·光学天线尺寸选择 | 第100-101页 |
| ·偏振依赖性 | 第101页 |
| ·扫描速度 | 第101-102页 |
| ·润滑剂作用 | 第102-103页 |
| ·侧壁陡直度 | 第103页 |
| ·超分辨光刻结果 | 第103-104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 第五章 大规模并行的近场超分辨光刻研究 | 第108-130页 |
| ·大规模并行近场光刻研究进展 | 第108-109页 |
| ·干涉式空间位相成像(ISPI)系统 | 第109-113页 |
| ·ISPI基本原理 | 第110-111页 |
| ·数值模拟与光栅设计 | 第111-112页 |
| ·ISPI测距实验结果 | 第112-113页 |
| ·ISPI辅助光刻实验装置 | 第113-116页 |
| ·实验装置 | 第113-115页 |
| ·掩膜板结构与制备 | 第115-116页 |
| ·ISPI辅助近场超分辨光刻 | 第116-122页 |
| ·ISPI辅助调平 | 第116-118页 |
| ·反馈控制机制 | 第118-120页 |
| ·光学天线工作距离控制 | 第120-122页 |
| ·大规模并行近场超分辨光刻研究 | 第122-126页 |
| ·5×5天线阵列并行光刻研究 | 第122-124页 |
| ·32×32天线阵列并行光刻研究 | 第124-125页 |
| ·大规模并行高速光刻研究 | 第125-126页 |
| ·本章小结 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-130页 |
| 第六章 论文总结与研究展望 | 第130-134页 |
| ·主要研究工作 | 第130-132页 |
| ·研究展望 | 第132-134页 |
| 攻读博士学位期间获得的学术成果 | 第134-135页 |
| 本论文研究工作得到以下项目资助 | 第135-136页 |
| 致谢 | 第136页 |
