| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| ·课题研究的背景 | 第11-16页 |
| ·镁及镁合金的特性 | 第11-12页 |
| ·镁合金的表面处理方法 | 第12-15页 |
| ·微弧氧化技术 | 第15页 |
| ·微弧氧化技术的发展与应用 | 第15-16页 |
| ·镁合金微弧氧化技术的发展及研究现状 | 第16-22页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第16页 |
| ·镁合金微弧氧化机理的研究现状 | 第16-17页 |
| ·镁合金微弧氧化负载模型及电源的研究现状 | 第17-20页 |
| ·镁合金微弧氧化的优点 | 第20-22页 |
| ·镁合金微弧氧化的影响因素 | 第22-24页 |
| ·课题研究的目标及内容 | 第24-26页 |
| 第2章 微弧氧化试验平台及实验方法 | 第26-30页 |
| ·微弧氧化试验平台的构建 | 第26-28页 |
| ·实验材料及方法 | 第28-30页 |
| ·实验材料及试样的制备 | 第28-29页 |
| ·试验中主要的分析及检测方法 | 第29-30页 |
| 第3章 不同电源脉冲输出波形对微弧氧化成膜效率的影响 | 第30-36页 |
| ·膜层生长速度的比较 | 第30-31页 |
| ·膜层表面形貌及膜厚的比较 | 第31-32页 |
| ·膜层电能消耗及耐蚀性的比较 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 不同电解液配方下微弧氧化成膜效率的比较 | 第36-41页 |
| ·不同电解液配方下膜层生长速度的比较 | 第36-37页 |
| ·不同电解液配方下膜层表面形貌的比较 | 第37-38页 |
| ·不同电解液配方下膜层耐蚀性的比较 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第5章 不同电参数对微弧氧化成膜效率的影响 | 第41-49页 |
| ·脉冲频率对微弧氧化成膜效率的影响 | 第41-45页 |
| ·不同频率下成膜速率的比较 | 第42页 |
| ·不同频率下膜层表面形貌的比较 | 第42-43页 |
| ·不同频率下膜层能耗值及耐蚀性的比较 | 第43-45页 |
| ·脉冲占空比对微弧氧化成膜效率的影响 | 第45-47页 |
| ·不同占空比下膜层成膜速率的比较 | 第45-46页 |
| ·不同占空比下膜层表面形貌的比较 | 第46-47页 |
| ·不同占空比下膜层能耗值的比较 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第56页 |