| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·研究背景及意义 | 第12-15页 |
| ·摩擦学涂层的发展和研究现状 | 第15-25页 |
| ·摩擦学涂层分类 | 第15页 |
| ·硬质涂层 | 第15-16页 |
| ·超硬涂层 | 第16-17页 |
| ·润滑涂层 | 第17-25页 |
| ·润滑机理 | 第18-19页 |
| ·润滑涂层的研究现状 | 第19-25页 |
| ·摩擦学涂层的结构设计 | 第25-26页 |
| ·纳米晶复合结构 | 第25-26页 |
| ·纳米多层结构 | 第26页 |
| ·摩擦学涂层的制备方法 | 第26-29页 |
| ·喷涂 | 第26-27页 |
| ·真空蒸镀 | 第27页 |
| ·离子镀 | 第27-28页 |
| ·化学气相沉积 | 第28页 |
| ·溅射镀膜 | 第28-29页 |
| ·本课题的设计思想和研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 涂层的制备和检测 | 第30-43页 |
| ·实验流程 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-31页 |
| ·实验材料 | 第31-32页 |
| ·涂层的结构设计 | 第32页 |
| ·涂层的制备 | 第32-34页 |
| ·基底材料的制备 | 第32-33页 |
| ·真空条件下的预处理 | 第33页 |
| ·涂层的制备 | 第33-34页 |
| ·涂层的检测方法和检测设备 | 第34-43页 |
| ·化学元素分析 | 第34-36页 |
| ·电子探针分析 | 第34页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第34-35页 |
| ·能量散射光谱仪 | 第35页 |
| ·俄歇电子能谱仪 | 第35-36页 |
| ·微观结构的表征 | 第36-40页 |
| ·掠入射X射线衍射 | 第36-38页 |
| ·原子力显微镜 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| ·透射电子显微镜 | 第39-40页 |
| ·性能测试 | 第40-43页 |
| ·纳米压痕分析 | 第40-41页 |
| ·摩擦学性能测试 | 第41-42页 |
| ·涂层的热分析 | 第42-43页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第43-107页 |
| ·VN涂层的制备及工艺参数的影响 | 第43-56页 |
| ·VN涂层的制备及表征 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-55页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·多层膜结构摩擦学涂层 | 第56-85页 |
| ·CrN/VN多层膜结构涂层的制备及其性能研究 | 第56-66页 |
| ·CrN/VN多层膜结构涂层的制备及表征 | 第56-58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-66页 |
| ·结论 | 第66页 |
| ·纳米多层膜结构自润滑CrAIN/VN涂层的制备及性能表征 | 第66-80页 |
| ·涂层的制备及性能表征 | 第66-69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-80页 |
| ·CrAIN/VN多层膜调制周期厚度对涂层性能的影响 | 第69-75页 |
| ·CrAIN/VN厚度调制比对涂层性能的影响 | 第75-80页 |
| ·结论 | 第80页 |
| ·CrAIN/VN涂层氧化及高温摩擦学行为研究 | 第80-85页 |
| ·实验 | 第80-81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-84页 |
| ·结论 | 第84-85页 |
| ·复合膜结构的摩擦学涂层 | 第85-107页 |
| ·CrAISiVN涂层的制备及Si对涂层性能的影响研究 | 第86-93页 |
| ·不同Si含量的CrAISiVN涂层的制备及表征 | 第86-87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-93页 |
| ·结论 | 第93页 |
| ·V对CrAISiVN涂层性能的影响研究 | 第93-101页 |
| ·不同V含量的CrAISiVN涂层的制备及表征 | 第93-95页 |
| ·结果与讨论 | 第95-100页 |
| ·结论 | 第100-101页 |
| ·CrAlSiVN涂层的高温氧化行为研究 | 第101-107页 |
| ·实验 | 第101页 |
| ·结果与讨论 | 第101-106页 |
| ·结论 | 第106-107页 |
| 第四章 主要结论及创新点 | 第107-109页 |
| ·主要结论 | 第107-108页 |
| ·创新点 | 第108-109页 |
| 第五章 发表论文和参加科研情况说明 | 第109-111页 |
| ·论文 | 第109页 |
| ·专利 | 第109页 |
| ·参加的国际会议 | 第109-110页 |
| ·申请项目 | 第110-111页 |
| 第六章 致谢 | 第111-112页 |
| 第七章 参考文献 | 第112-120页 |
