氧化钛薄膜的制备及钒掺杂对其特性影响的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-19页 |
| ·氧化钛薄膜的研究背景 | 第11页 |
| ·本课题在国内外研究状况 | 第11-16页 |
| ·本论文主要研究内容和创新点 | 第16-17页 |
| ·论文结构 | 第17-19页 |
| 第二章 氧化钛薄膜的制备和表征方法 | 第19-30页 |
| ·氧化钛的晶体结构 | 第19-20页 |
| ·氧化钛薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射法 | 第22-25页 |
| ·磁控溅射法优点 | 第22页 |
| ·磁控溅射镀膜装置示意图 | 第22-23页 |
| ·制备过程 | 第23-25页 |
| ·氧化钛薄膜的微观结构表征和光电特性测试 | 第25-30页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25-26页 |
| ·紫外-可见分光光度法 | 第26页 |
| ·电学性能测试原理及方法 | 第26-30页 |
| 第三章 溅射功率对氧化钛薄膜制备的影响 | 第30-39页 |
| ·背景 | 第30页 |
| ·TiOx 薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·实验准备 | 第30页 |
| ·薄膜制备 | 第30-31页 |
| ·TiOx 薄膜的测试表征 | 第31-37页 |
| ·薄膜厚度的变化 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第32页 |
| ·表面形貌分析 | 第32-33页 |
| ·光学特性分析 | 第33-35页 |
| ·电学特性分析 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 常温溅射制备的非晶氧化钛薄膜特性研究 | 第39-46页 |
| ·背景 | 第39页 |
| ·常温溅射氧化钛薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·实验准备 | 第39页 |
| ·薄膜制备 | 第39-40页 |
| ·氧化钛薄膜的测试和表征 | 第40-44页 |
| ·溅射速率和膜厚 | 第40-41页 |
| ·表面形貌分析 | 第41页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第41-42页 |
| ·光学特性分析 | 第42-43页 |
| ·电学特性分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 钒掺杂氧化钛薄膜的制备与特性研究 | 第46-61页 |
| ·背景 | 第46页 |
| ·钒掺杂氧化钛薄膜的制备 | 第46-48页 |
| ·半导体掺杂方法 | 第46-47页 |
| ·掺杂氧化钛薄膜的制备 | 第47-48页 |
| ·钒掺杂对氧化钛薄膜结构和宏观特性影响 | 第48-53页 |
| ·掠入射 X 射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第49-50页 |
| ·光学特性 | 第50-52页 |
| ·电学特性 | 第52-53页 |
| ·掺杂时间对氧化钛薄膜特性的影响 | 第53-57页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第53-54页 |
| ·光学特性 | 第54-56页 |
| ·电学特性 | 第56-57页 |
| ·热处理对掺杂氧化钛薄膜微观结构及特性的影响 | 第57-59页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第57页 |
| ·光学特性 | 第57-58页 |
| ·电学特性 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第六章 结论及展望 | 第61-63页 |
| ·全文工作总结 | 第61页 |
| ·后续工作及展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
