| 论文摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-11页 |
| ·ABO_3型铁电体 | 第9页 |
| ·BiFeO_3和BaTiO_3 | 第9-10页 |
| ·本论文的工作 | 第10-11页 |
| 第二章 靶的制备与表征 | 第11-22页 |
| ·靶的固相法制备 | 第11-18页 |
| ·靶的液相法制备 | 第18-21页 |
| ·小结 | 第21-22页 |
| 第三章 衬底的预处理与缓冲层生长 | 第22-34页 |
| ·Si衬底的预处理 | 第22页 |
| ·Al_2O_3衬底的RHEED谱 | 第22-23页 |
| ·LaNiO_3/Si衬底的制备与表征 | 第23-27页 |
| ·SrTiO_3表面刻蚀与生长修复 | 第27-31页 |
| ·SrTiO_3衬底上制备LaNiO_3缓冲层 | 第31-32页 |
| ·SrTiO_3衬底上生长SrRuO_3缓冲层 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 BiFeO_3薄膜的制备与表征 | 第34-75页 |
| ·BiFeO_3/LaNiO_3/Si的制备与表征 | 第34-40页 |
| ·Bi与Fe含量不同的靶对BiFeO_3薄膜的影响 | 第40-46页 |
| ·在石英、蓝宝石、SrTiO_3和LaAlO_3上制备BiFeO_3薄膜 | 第46-52页 |
| ·BiFeO_3/SrRuO_3/SrTiO_3外延生长 | 第52-67页 |
| ·Zn掺杂BiFeO_3薄膜的制备与表征 | 第67-73页 |
| ·本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 BaTiO_3外延生长 | 第75-84页 |
| ·BaTiO_3/SrTiO_3外延生长 | 第75-77页 |
| ·BaTiO_3/SrRuO_3/SrTiO_3外延生长 | 第77-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 第六章 总结与展望 | 第84-86页 |
| ·总结 | 第84-85页 |
| ·展望 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第89页 |
