| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-37页 |
| ·光刻概述 | 第15-20页 |
| ·光刻曝光源 | 第16页 |
| ·光刻掩模 | 第16-18页 |
| ·光刻介质 | 第18-20页 |
| ·亚波长光刻研究进展 | 第20-29页 |
| ·表面等离子体亚波长光刻的研究 | 第21-28页 |
| ·导模干涉亚波长光刻的研究 | 第28-29页 |
| ·本论文主要研究工作 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-37页 |
| 第二章 亚波长光刻介质基本特性研究 | 第37-59页 |
| ·均匀辐照365nm LED光源设计及其在光刻中的应用 | 第37-42页 |
| ·均匀辐照紫外LED面光源设计 | 第38-40页 |
| ·光刻实验掩模版曝光介质 | 第40-42页 |
| ·XAR-N 7700/30型光刻胶特性研究 | 第42-51页 |
| ·光刻胶衬底的清洗及光刻胶薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·光刻胶的显影速度研究 | 第44-45页 |
| ·光刻胶的对比度研究 | 第45-46页 |
| ·光刻胶薄膜的厚度研究 | 第46-49页 |
| ·光刻胶薄膜的折射率测量 | 第49页 |
| ·双光束干涉刻写周期性结构 | 第49-51页 |
| ·氰基偶氮苯共聚物薄膜光刻特性研究 | 第51-55页 |
| ·偶氮苯聚合物薄膜光致质量迁移的基本原理 | 第51-52页 |
| ·氰基偶氮苯共聚物的光学特性研究 | 第52-54页 |
| ·氰基偶氮苯共聚物薄膜光致表面起伏光栅刻写 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第三章 棱镜耦合激发SPs、导模光刻的优化和基本原理 | 第59-79页 |
| ·基于Kretschmann方式激发SPs光刻的基本原理 | 第59-62页 |
| ·SPs光刻结构的优化设计 | 第62-65页 |
| ·导模干涉光刻的基本原理 | 第65-74页 |
| ·非对称金属包覆介质波导基本理论 | 第66-69页 |
| ·棱镜耦合激发导模干涉光刻 | 第69-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第四章 大面积亚波长偶氮苯聚合物光栅光刻研究 | 第79-109页 |
| ·实验结构、装置及关键设备 | 第79-84页 |
| ·实验结构、装置 | 第79-81页 |
| ·光波导参数测量仪 | 第81-82页 |
| ·基于显微成像的聚合物平面波导光学参数测量仪 | 第82-84页 |
| ·532nm激光激发SPs、导模刻写大面积亚波长偶氮苯聚合物光栅 | 第84-96页 |
| ·实验条件的优化 | 第85-87页 |
| ·SPs干涉刻写大面积亚波长光栅研究 | 第87-91页 |
| ·导模干涉刻写大面积亚波长光栅研究 | 第91-96页 |
| ·442nm激光激发SPs、导模刻写大面积亚波长偶氮苯聚合物光栅 | 第96-106页 |
| ·实验条件的优化 | 第97-98页 |
| ·442nm激光激发SPs干涉刻写大面积亚波长光栅研究 | 第98-100页 |
| ·442nm激光激发导模干涉刻写大面积亚波长光栅研究 | 第100-106页 |
| ·亚波长偶氮苯聚合物光栅的大面积特性表征 | 第106-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-109页 |
| 第五章 SPs增强偶氮苯聚合物吸收调制及超分辨光刻展望 | 第109-119页 |
| ·基于吸收可调材料的超分辨光刻基本原理及进展 | 第109-112页 |
| ·局域表面等离子体增强偶氮苯聚合物吸收调制研究 | 第112-116页 |
| ·基于偶氮苯聚合物吸收调制的超分辨光刻研究展望 | 第116-117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-119页 |
| 第六章 总结与展望 | 第119-123页 |
| ·主要研究工作 | 第119-121页 |
| ·展望与建议 | 第121-123页 |
| 攻读博士学位期间参与的科研项目及成果、获奖 | 第123-127页 |
| 致谢 | 第127页 |
