| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·溶解氧的测定意义及测定方法 | 第8页 |
| ·荧光法测量溶解氧原理 | 第8-9页 |
| ·荧光分子发光机理 | 第8-9页 |
| ·荧光猝灭效应 | 第9页 |
| ·氧敏感膜的研究进展 | 第9-18页 |
| ·氧敏剂 | 第9-13页 |
| ·氧敏感膜基体 | 第13-16页 |
| ·氧敏感膜的制备 | 第16-17页 |
| ·氧敏感膜的特性 | 第17-18页 |
| ·立题依据和主要研究内容 | 第18-20页 |
| ·立题依据 | 第18页 |
| ·主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 邻菲咯啉钌为氧敏剂的氧敏感膜研究 | 第20-36页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验部分 | 第20-23页 |
| ·实验试剂和仪器 | 第20-21页 |
| ·实验原理 | 第21-22页 |
| ·氧敏感膜的制备方法 | 第22页 |
| ·实验装置 | 第22-23页 |
| ·标准曲线的绘制方法 | 第23页 |
| ·溶解氧的测定方法 | 第23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-35页 |
| ·MTOS 和 TEOS 为共聚前驱体的氧敏感膜 | 第23-29页 |
| ·HPDMS-TEOS 为基体的氧敏感膜 | 第29-35页 |
| ·本章结论 | 第35-36页 |
| 第三章 八乙基铂卟啉为氧敏剂的氧敏感膜的研究 | 第36-51页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验部分 | 第36-38页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第36-37页 |
| ·PtOEP / HPDMS-TEOS 氧敏感膜制备 | 第37页 |
| ·纳米 SiO2制备 | 第37页 |
| ·纳米 SiO2负载 PtOEP | 第37页 |
| ·SiO2掺杂 HPDMS-TEOS 氧敏感膜的制备 | 第37页 |
| ·聚氯乙烯（PVC）膜与乙基纤维素（EC）膜制备 | 第37页 |
| ·氧敏感膜的荧光测定条件 | 第37-38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-50页 |
| ·HPDMS-TEOS 为基体的 PtOEP 氧敏感膜 | 第38-40页 |
| ·SiO2掺杂 HPDMS-TEOS 氧敏感膜 | 第40-44页 |
| ·PVC 氧敏感膜 | 第44-47页 |
| ·EC 氧敏感膜 | 第47-50页 |
| ·本章结论 | 第50-51页 |
| 第四章 主要结论和展望 | 第51-53页 |
| ·主要结论 | 第51页 |
| ·展望 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58页 |
