| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-30页 |
| ·引言 | 第7-14页 |
| ·纳米材料的基本概念 | 第7-10页 |
| ·纳米材料的特性 | 第10-12页 |
| ·一维纳米材料的制备与合成 | 第12-13页 |
| ·相稳定性与性能 | 第13-14页 |
| ·模板法电沉积研究现状 | 第14-19页 |
| ·阳极氧化铝模板(AAO) | 第14-17页 |
| ·基于模板的电化学沉积 | 第17-19页 |
| ·钴纳米材料中的相变 | 第19-28页 |
| ·钴 | 第19-22页 |
| ·马氏体相变 | 第22-24页 |
| ·马氏体相变的尺寸效应和形状效应 | 第24-28页 |
| ·本课题的研究意义和内容 | 第28-30页 |
| 第二章 材料制备及表征方法 | 第30-37页 |
| ·钴纳米线的模板法制备 | 第30-34页 |
| ·实验步骤及技巧 | 第30-32页 |
| ·溶液及电源参数 | 第32-34页 |
| ·纳米线形貌和结构表征 | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，简称 SEM） | 第34页 |
| ·透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称 TEM） | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射（X-Ray Diffraction，简称 XRD） | 第35页 |
| ·马氏体逆相变表征 | 第35-37页 |
| ·示差扫描热分析（Differential Scanning Calorimetry，简称 DSC） | 第35页 |
| ·原位 X 射线衍射（In situ XRD） | 第35-37页 |
| 第三章 钴纳米线的模板法电沉积制备 | 第37-52页 |
| ·阳极氧化铝模板和钴纳米线形貌 | 第37-44页 |
| ·阳极氧化铝模板形貌 | 第37-40页 |
| ·钴纳米线的形貌 | 第40-44页 |
| ·钴纳米线生长机制的探讨 | 第44-45页 |
| ·钴纳米线的结构和取向 | 第45-50页 |
| ·室温 X 射线衍射图谱 | 第46-48页 |
| ·选区电子衍射分析 | 第48-50页 |
| ·钴纳米线生长取向的讨论 | 第50-52页 |
| 第四章 钴纳米线的马氏体逆相变 | 第52-64页 |
| ·马氏体逆相变的热效应 | 第52-54页 |
| ·原位 XRD 中的相结构变化 | 第54-61页 |
| ·钴纳米线中马氏体逆相变讨论 | 第61-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第72-74页 |
