| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·磁记录技术的发展简史 | 第10-13页 |
| ·磁记录原理 | 第13-14页 |
| ·磁记录介质的结构 | 第14-15页 |
| ·磁记录介质材料的基本特性参数 | 第15页 |
| ·磁记录的几种模式 | 第15-17页 |
| ·水平磁记录 | 第15-16页 |
| ·垂直磁记录 | 第16页 |
| ·热辅助磁记录技术 | 第16-17页 |
| ·图形化记录介质 | 第17页 |
| ·磁记录介质材料的发展状况 | 第17-21页 |
| ·Pr-Co磁性薄膜材料的性质与研究现状 | 第18-19页 |
| ·FePt合金的特点和研究现状 | 第19-21页 |
| ·该论文研究的意义 | 第21-23页 |
| 第二章 薄膜的制备方法和表征 | 第23-31页 |
| ·样品的制备 | 第23-27页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第23-24页 |
| ·衬底的清洗 | 第24-25页 |
| ·Pr-Co薄膜的制备条件 | 第25-26页 |
| ·FePt/B_4C复合薄膜的制备 | 第26页 |
| ·样品制备后的退火工艺 | 第26-27页 |
| ·薄膜样品的表征 | 第27-30页 |
| ·薄膜样品微观结构的表征 | 第27-29页 |
| ·磁性能参数的测定 | 第29-30页 |
| ·样品成分的确定 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 Pr-Co合金薄膜相的构成、微结构和磁性能的研究 | 第31-37页 |
| ·成分的确定 | 第31页 |
| ·退火温度的确定 | 第31-32页 |
| ·退火时间的长短对微结构和磁性能的影响 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射的分析 | 第32-33页 |
| ·透射电子显微镜(TEM)的分析 | 第33-34页 |
| ·磁性能的分析 | 第34-36页 |
| ·本章结论 | 第36-37页 |
| 第四章 真空磁场退火对FePt/B_4C薄膜微结构和磁性能的影响 | 第37-49页 |
| ·实验条件 | 第38页 |
| ·确定样品的组分 | 第38-39页 |
| ·FePt层的厚度对磁性的影响 | 第39-41页 |
| ·B_4C对FePt磁性能和微结构的影响 | 第41-43页 |
| ·真空磁场退火对FePt合金微结构和磁性能的影响 | 第43-48页 |
| ·无磁场退火条件 | 第43-44页 |
| ·磁场退火对FePt薄膜的作用 | 第44-45页 |
| ·磁场下退火时间对FePt薄膜微结构和磁性能的影响 | 第45-46页 |
| ·磁场下退火温度对FePt合金的微结构和磁性能的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-50页 |
| ·总结 | 第49页 |
| ·课题展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 附录 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
