高品质硅基多孔阳极氧化铝膜的制备及影响表面形貌因素的分析
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·PAA | 第8页 |
| ·PAA的结构模型 | 第8-10页 |
| ·硅基PAA模板的特点和应用 | 第10-13页 |
| ·硅基PAA模板的特点 | 第10-11页 |
| ·硅基PAA的应用 | 第11-13页 |
| ·硅基PAA研究进展以及国内外研究现状 | 第13-15页 |
| ·研究内容及其创新点 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第15页 |
| ·创新点 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-20页 |
| 第二章 铝膜的制备方法 | 第20-28页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第20-22页 |
| ·CVD的原理 | 第20-21页 |
| ·CVD的分类 | 第21页 |
| ·CVD技术的特点和应用 | 第21-22页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第22-25页 |
| ·PVD的定义和原理 | 第22-23页 |
| ·PVD的分类 | 第23-25页 |
| ·PVD的特点和应用 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-28页 |
| 第三章 硅基多孔阳极氧化铝(PAA)膜的制备 | 第28-37页 |
| ·硅基多孔阳极阳极氧化铝膜的制备工艺 | 第30-34页 |
| ·实验用品 | 第30-31页 |
| ·制备工艺 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第四章 制备硅基多孔阳极氧化铝的结果与分析 | 第37-60页 |
| ·影响硅基PAA表面形貌的因素 | 第37-48页 |
| ·制备TI膜 | 第37-38页 |
| ·镀铝膜质量对硅基PAA膜表面形貌的影响 | 第38-44页 |
| ·抛光对硅基底PAA膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·氧化过程对硅基PAA表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·硅基PAA膜的形成机理 | 第48-56页 |
| ·多孔阳极氧化铝薄膜形成机理的分类 | 第48-53页 |
| ·硅基PAA膜形成机理 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第五章 玻璃基底多孔阳极氧化铝膜的制备与表征 | 第60-65页 |
| ·玻璃基底多孔阳极氧化铝的制备和表征 | 第60-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-65页 |
| 总结与展望 | 第65-67页 |
| 总结 | 第65页 |
| 展望 | 第65-67页 |
| 硕士期间科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
