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溶胶—凝胶法制备Si基ZnO薄膜的微结构和光电性能研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 :绪论第12-25页
   ·选题依据和研究内容第12-13页
   ·ZnO半导体第13-17页
     ·ZnO晶体结构第13-14页
     ·ZnO能带结构第14-16页
     ·ZnO基本特性第16-17页
   ·ZnO天然N型的原因第17-19页
   ·衬底对ZnO薄膜影响第19-21页
   ·制备ZnO薄膜的方法第21-25页
     ·磁控溅射(RF)第21-22页
     ·分子束外延(MBE)第22-23页
     ·金属有机化合物气相沉积(MOCVD)第23-24页
     ·脉冲激光沉积(PLD)第24页
     ·溶胶-凝胶(Sol-gel)第24-25页
第二章 样品制备方法及测试手段第25-44页
   ·溶胶凝胶(Sol-gel)法制备ZnO薄膜第25-28页
     ·Sol-gel方法的历史第25-26页
     ·Sol-gel方法的基本过程第26页
     ·Sol-gel方法的特点第26-27页
     ·Sol-gel制备薄膜的方法第27-28页
   ·Sol-gel制备ZnO薄膜第28-35页
     ·胶体生成ZnO薄膜的原理第28-29页
     ·Sol-gel制备ZnO胶体第29-31页
     ·Si片的清洗第31-34页
     ·薄膜的干燥退火第34页
     ·Sol-gel制备ZnO薄膜流程第34-35页
   ·结构表征和测试手段第35-44页
     ·正电子湮没技术的原理和测试手段第35-42页
       ·正电子寿命谱第36-39页
       ·正电子多普勒展宽第39-42页
     ·X射线衍射(XRD)第42页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第42-43页
     ·光致发光(PL)第43-44页
第三章 不同干燥退火程序、退火温度对ZnO特性的影响第44-52页
   ·引言第44页
   ·不同干燥退火程序对ZnO薄膜特性的影响第44-49页
     ·不同干燥退火程序系列ZnO薄膜的制备第44-45页
     ·不同干燥退火程序系列ZnO薄膜X射线衍射分析第45-49页
   ·退火温度梯度对ZnO薄膜的影响第49-51页
     ·退火温度梯度系列ZnO薄膜的制备第49页
     ·退火温度梯度系列ZnO薄膜X射线衍射分析第49-51页
   ·小结第51-52页
第四章 不同摩尔浓度Na、K、Mg掺杂对ZnO薄膜特性的影响第52-68页
   ·引言第52页
   ·Na掺杂对ZnO薄膜特性的影响第52-58页
     ·Na掺杂ZnO薄膜的制备第52-53页
     ·Na掺杂ZnO薄膜的X射线衍射分析第53-55页
     ·Na掺杂ZnO薄膜的正电子寿命谱分析第55-56页
     ·Na掺杂ZnO薄膜的正电子多普勒分析第56-58页
   ·K掺杂对ZnO薄膜特性的影响第58-62页
     ·K掺杂ZnO薄膜的制备第58页
     ·K掺杂ZnO薄膜的X射线衍射分析第58-60页
     ·K掺杂ZnO薄膜的正电子寿命谱分析第60-61页
     ·K掺杂ZnO薄膜的正电子多普勒分析第61-62页
   ·Mg掺杂对ZnO薄膜特性的影响第62-66页
     ·Mg掺杂ZnO薄膜的制备第62页
     ·Mg掺杂ZnO薄膜的X射线衍射分析第62-64页
     ·Mg掺杂ZnO薄膜的正电子寿命谱分析第64-65页
     ·Mg掺杂ZnO薄膜的正电子多普勒分析第65-66页
   ·小结第66-68页
第五章 Si基ZnO薄膜的光电特性研究第68-81页
   ·引言第68-69页
   ·ZnO薄膜的制备第69-70页
   ·ZnO薄膜的扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射分析(XRD)第70-72页
   ·ZnO薄膜光致发光谱分析(PL)第72-73页
   ·n-zno/p-Si异质结的白光和红光特性研究第73-77页
   ·膜层数对n-ZnO/p-Si异质结光电性能的研究第77-80页
     ·膜层数对n-ZnO/p-Si异质结Ⅰ-Ⅴ特性曲线的影响第77-78页
     ·膜层数对n-ZnO/p-Si异质结P-I_(sc)特性曲线的影响第78-79页
     ·膜层数对n-ZnO/p-Si异质结P-V_(oc)特性曲线的影响第79-80页
   ·小结第80-81页
第六章 总结和展望第81-85页
   ·实验总结第81-83页
   ·问题展望第83-85页
参考文献第85-95页
致谢第95-96页
攻读硕士学位期间发表的学位论文目录第96页

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