中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
·高聚物的结构简介 | 第9页 |
·高分子材料的发展过程 | 第9-10页 |
·扫描电镜(SEM)和X射线能谱微区分析(XRMA)在研究高分子材料中的应用进展 | 第10-14页 |
参考文献 | 第14-17页 |
第2章 三元尼龙/聚甲基丙烯酸甲酯共混物X射线能谱微区分析 | 第17-27页 |
·引言 | 第17-18页 |
·实验部分 | 第18-19页 |
·结果与讨论 | 第19-25页 |
结论 | 第25页 |
参考文献 | 第25-27页 |
第3章 蚀刻方法结合X射线能谱微区分析研究共混聚合物的相容性 | 第27-36页 |
·引言 | 第27-28页 |
·实验部分 | 第28页 |
·结果与讨论 | 第28-34页 |
结论 | 第34-35页 |
参考文献 | 第35-36页 |
第4章 环氧树脂/聚氨酯共混聚合物蚀刻方法研究 | 第36-47页 |
·引言 | 第36页 |
·实验部分 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-44页 |
结论 | 第44-45页 |
参考文献 | 第45-47页 |
结论 | 第47-48页 |
附录 | 第48-49页 |
致谢 | 第49页 |