| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·国内外高温超导带材的发展状况及研究现状 | 第12-15页 |
| ·我国高温超导材料的发展状况与研究现状 | 第12-14页 |
| ·国外高温超导材料的发展状况与研究现状 | 第14-15页 |
| ·第二代高温超导带材的制备 | 第15-19页 |
| ·金属基带的选择与制备 | 第15-17页 |
| ·缓冲层的选择与制备方法 | 第17-18页 |
| ·YBCO超导层 | 第18-19页 |
| ·导电缓冲层 | 第19-20页 |
| ·本论文的研究背景、目的、意义及主要研究内容 | 第20-22页 |
| ·研究背景、目的和意义 | 第20-21页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验原理、实验和检测方法 | 第22-35页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-δ)微观结构 | 第22-23页 |
| ·氧化物超导体的结构共性 | 第22页 |
| ·YBa_2Cu_3O_(7-δ)的微观结构 | 第22-23页 |
| ·化学溶液沉积法(CSD) | 第23-25页 |
| ·化学溶液沉积法的制备实验 | 第25-28页 |
| ·前驱液的配置 | 第25页 |
| ·前驱膜的涂覆 | 第25-27页 |
| ·前驱膜的热处理 | 第27-28页 |
| ·表征方法及原理 | 第28-35页 |
| ·薄膜微观形貌分析 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射分析 | 第29-31页 |
| ·室温电阻率测试 | 第31-32页 |
| ·YBCO超导薄膜超导性能检测 | 第32-35页 |
| 第3章 MOD法在Ni-W基底上制备La_xSr_(1-x)TiO_3导电缓冲层的探索 | 第35-47页 |
| ·钛酸锶镧导电缓冲层的可行性分析 | 第35-36页 |
| ·实验仪器及原材料 | 第36-37页 |
| ·实验仪器 | 第36页 |
| ·实验原材料 | 第36-37页 |
| ·MOD法制备La_xSr_(1-x)TiO_3导电缓冲层 | 第37-39页 |
| ·基底的清洗 | 第37-38页 |
| ·前驱液的配置与涂覆 | 第38页 |
| ·薄膜热处理 | 第38-39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-45页 |
| ·相同前驱液所合成的La_xSr_(1-x)TiO_3粉末 | 第39-40页 |
| ·热处理温度对薄膜取向和形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·热处理时间对薄膜取向和形貌的影响 | 第42-44页 |
| ·基底对合成La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 磁控溅射法在Ni-W基底上制备银导电缓冲层 | 第47-59页 |
| 引言 | 第47页 |
| ·磁控溅射法(MS)简介 | 第47-48页 |
| ·MS(magnetron sputtering)简介 | 第47-48页 |
| ·磁控溅射原理 | 第48页 |
| ·实验仪器及原材料 | 第48-49页 |
| ·实验 | 第49-58页 |
| ·基片的清洗 | 第49-50页 |
| ·银薄膜的溅射沉积 | 第50页 |
| ·薄膜热处理 | 第50-51页 |
| ·实验结果与讨论 | 第51-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 MOD法在LSTO和Ag缓冲层上生长YBCO超导层 | 第59-72页 |
| ·在LSTO/Ni-W结构上生长YBCO超导层 | 第59-67页 |
| ·实验仪器及原材料 | 第59页 |
| ·MOD法制备YBCO超导层 | 第59-61页 |
| ·实验结果与讨论 | 第61-67页 |
| ·MOD法在Ag/Ni-W结构上生长YBCO超导层 | 第67-70页 |
| ·前驱液的配置与涂覆 | 第67-68页 |
| ·薄膜热处理 | 第68页 |
| ·实验结果与讨论 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第6章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第79页 |
