| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 致谢 | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质及应用 | 第13-19页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质 | 第15-18页 |
| ·ZnO薄膜的结构特点 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的电学性质 | 第16页 |
| ·ZnO薄膜的透光性 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的气敏特性 | 第17页 |
| ·ZnO薄膜的压敏特性 | 第17页 |
| ·ZnO薄膜的压电特性 | 第17-18页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第18-19页 |
| ·在太阳能电池方面的应用 | 第18页 |
| ·在热镜方面的应用 | 第18页 |
| ·在液晶显示器方面的应用 | 第18-19页 |
| ·其它 | 第19页 |
| ·ZnO薄膜生长技术的最新研究进展 | 第19-24页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel)法 | 第19-22页 |
| ·概述 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的特点 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法制膜工艺 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射(Sputtering)法 | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第22-23页 |
| ·金属有机物气相沉积(MOCVD)法 | 第23页 |
| ·分子束外延(Molecular Beam Epitaxy)法 | 第23-24页 |
| ·喷雾热分解(Spray Pyrolysis)法 | 第24页 |
| ·ZnO薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
| ·课题研究的意义和内容 | 第25-26页 |
| ·课题研究的主要内容和技术路线 | 第26-28页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第26-27页 |
| ·课题研究的技术路线 | 第27-28页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备ZnO∶F∶Al薄膜的机理及工艺 | 第28-37页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的机理 | 第28-30页 |
| ·ZnO∶F∶Al薄膜的制备工艺过程 | 第30-33页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·溶胶的制备 | 第30-31页 |
| ·基片的清洗 | 第31页 |
| ·ZnO∶F∶Al薄膜的制备 | 第31-33页 |
| ·薄膜的表征 | 第33-36页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜透光性能的分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜电学性能的分析 | 第36页 |
| ·实验的主要设备仪器 | 第36-37页 |
| 第三章 ZnO∶F∶Al薄膜的结晶、表面形貌及透光性能分析 | 第37-62页 |
| ·溶胶浓度对ZnO∶F∶Al薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第37-38页 |
| ·薄膜的SEM分析 | 第38-39页 |
| ·薄膜的透光性能分析 | 第39-40页 |
| ·掺杂浓度对ZnO∶F∶Al薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
| ·不同掺杂浓度下薄膜的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·不同掺杂浓度下薄膜的SEM分析 | 第42-43页 |
| ·不同掺杂浓度下薄膜的透光性能分析 | 第43页 |
| ·退火温度对ZnO∶F∶Al薄膜性能的影响 | 第43-52页 |
| ·不同退火温度下薄膜的XRD分析 | 第44-49页 |
| ·不同退火温度下薄膜的SEM分析 | 第49-50页 |
| ·不同退火温度下薄膜的透光性能分析 | 第50-52页 |
| ·退火气氛对ZnO∶F∶Al薄膜性能的影响 | 第52-62页 |
| ·不同退火气氛下薄膜的XRD分析 | 第53-57页 |
| ·不同退火气氛下薄膜的SEM分析 | 第57-58页 |
| ·不同退火气氛下薄膜的透光性能分析 | 第58-62页 |
| 第四章 ZnO∶F∶Al薄膜的电学性能分析 | 第62-69页 |
| ·不同退火气氛下薄膜的导电性能分析 | 第63-64页 |
| ·不同退火温度下薄膜的导电性能分析 | 第64-67页 |
| ·不同掺杂浓度下薄膜的导电性能分析 | 第67-69页 |
| 第五章 全文结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 研究生期间所撰写论文 | 第76页 |
