| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第1章 文献综述 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·传感器及其气敏传感器的重要性 | 第8-9页 |
| ·半导体气敏传感器的分类和主要特性 | 第9-10页 |
| ·ABO_3 钙钛型矿复合氧化物气敏材料的研究 | 第10-20页 |
| ·ABO_3 钙钛矿型的结构特性和应用 | 第10-13页 |
| ·ABO_3 钙钛矿型复合氧化物的气敏性质和应用 | 第13页 |
| ·影响 ABO_3 钙钛矿型复合氧化物气敏性能的因素 | 第13-14页 |
| ·ABO_3 钙钛矿型复合氧化物的制备 | 第14-17页 |
| ·ABO_3 钙钛矿型氧化物的气敏机理 | 第17-18页 |
| ·ABO_3 钙钛矿型复合氧化物传感器气敏膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·LaCrO_3 材料的研究现状 | 第20-24页 |
| ·LaCrO_3 材料的结构与理化性质 | 第20页 |
| ·LaCrO_3 材料的应用领域及现状 | 第20-21页 |
| ·LaCrO_3 材料的研究热点 | 第21-22页 |
| ·LaCrO_3 材料的制备方法 | 第22-23页 |
| ·LaCrO_3 材料的掺杂现状 | 第23-24页 |
| ·课题的选取及研究意义 | 第24-25页 |
| 第2章 实验部分 | 第25-31页 |
| ·主要实验药品和实验仪器 | 第25-26页 |
| ·主要实验药品 | 第25-26页 |
| ·主要实验仪器 | 第26页 |
| ·LaCrO_3 系列纳米粉体的制备与表征 | 第26-27页 |
| ·纳米粉体的制备 | 第26-27页 |
| ·纳米粉体的表征 | 第27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·靶材的制备 | 第27-28页 |
| ·基片的处理 | 第28页 |
| ·薄膜的制备与表征 | 第28页 |
| ·气敏元件的制备与测试 | 第28-29页 |
| ·元件气敏性参数的定义 | 第29-31页 |
| 第3章 LaCr_(1-x)Ti_xO_3系列氧化物的表征与气敏性分析 | 第31-43页 |
| ·LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 化合物的差热-热重分析 | 第31-32页 |
| ·不同烧结温度下 LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 化合物的晶体结构分析 | 第32-33页 |
| ·不同烧结温度下 LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 化合物的红外谱图分析 | 第33-34页 |
| ·LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 化合物的形貌分析 | 第34-35页 |
| ·LaCr_(1-x)Ti_xO_3 系列化合物的晶体结构分析 | 第35-36页 |
| ·粉体的X 射线光电子能谱分析 | 第36-38页 |
| ·LaCr_(1-x)Ti_xO_3 系列化合物的气敏性能测试 | 第38-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3薄膜的制备、表征与气敏性 | 第43-51页 |
| ·磁控溅射方法的原理 | 第43-45页 |
| ·磁控溅射法的重要参数 | 第45页 |
| ·靶材的制备 | 第45-46页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第46页 |
| ·LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 薄膜的晶体结构分析 | 第47页 |
| ·LaCr_(0.8)Ti_(0.2)O_3 薄膜的形貌分析 | 第47-49页 |
| ·薄膜的 X 射线光电子能谱分析 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 展望 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
