基于纳米压印技术的大面积高密度光栅的研制
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| ·引言 | 第7-9页 |
| ·下一代光刻技术介绍 | 第9-13页 |
| ·光栅背景介绍 | 第13-20页 |
| ·衍射光栅 | 第13-14页 |
| ·光栅制造技术的发展 | 第14-17页 |
| ·从衍射光栅到亚波长光栅 | 第17-18页 |
| ·亚波长光栅的应用 | 第18-20页 |
| ·课题意义 | 第20-21页 |
| ·论文构架 | 第21-22页 |
| ·参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 纳米压印技术 | 第25-43页 |
| ·纳米压印技术基本原理 | 第25-31页 |
| ·纳米压印模板 | 第26-29页 |
| ·压印光刻胶 | 第29-30页 |
| ·压印设备 | 第30-31页 |
| ·纳米压印技术分类 | 第31-39页 |
| ·紫外固化压印(UV-NIL) | 第32-33页 |
| ·微接触印刷(μCP) | 第33-35页 |
| ·反压印(R-NIL) | 第35页 |
| ·光刻结合压印(CNP) | 第35-36页 |
| ·激光辅助压印(LADI) | 第36-38页 |
| ·镂花印刷(Stenciling) | 第38页 |
| ·各种工艺比较 | 第38-39页 |
| ·纳米压印技术研究现状 | 第39-40页 |
| ·纳米压印技术面临的挑战 | 第40-41页 |
| ·参考文献 | 第41-43页 |
| 第三章 运用纳米压印技术制造光栅的研究 | 第43-68页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·光栅模板制造的研究 | 第43-54页 |
| ·电子束光刻制造光栅图形 | 第43-45页 |
| ·金属化和溶脱工艺 | 第45-46页 |
| ·反应离子刻蚀(RIE) | 第46-52页 |
| ·模板表面预处理 | 第52-54页 |
| ·纳米压印技术制造光栅的研究 | 第54-66页 |
| ·压印前准备 | 第54-56页 |
| ·基片清洗 | 第54页 |
| ·光刻胶旋涂 | 第54-56页 |
| ·压印机理研究 | 第56-63页 |
| ·热压印过程研究 | 第57-62页 |
| ·脱模过程研究 | 第62-63页 |
| ·清洗模板 | 第63-64页 |
| ·压印中问题的讨论 | 第64-66页 |
| ·压力分布改进 | 第64-65页 |
| ·模板的重复使用 | 第65-66页 |
| ·参考文献 | 第66-68页 |
| 第四章 光栅的光学性能研究 | 第68-89页 |
| ·引言 | 第68页 |
| ·相位光栅衍射性能研究 | 第68-77页 |
| ·相位光栅衍射理论研究 | 第69-75页 |
| ·光栅高度对于衍射的影响 | 第71-73页 |
| ·光栅周期对于衍射的影响 | 第73-74页 |
| ·入射光波长对于衍射的影响 | 第74-75页 |
| ·衍射测量结果 | 第75-77页 |
| ·亚波长光栅偏振性能研究 | 第77-87页 |
| ·亚波长光栅等效介质理论简介 | 第78-80页 |
| ·偏振性能测试 | 第80-87页 |
| ·实验测量装置 | 第81页 |
| ·实验测量结果 | 第81-87页 |
| ·参考文献 | 第87-89页 |
| 第五章 总结与展望 | 第89-91页 |
| ·总结 | 第89-90页 |
| ·展望 | 第90-91页 |
| 附录:攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
