基于MEMS技术的微型气相色谱系统的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·色谱法简介 | 第8-9页 |
| ·气相色谱法简介 | 第9页 |
| ·气相色谱系统介绍 | 第9-11页 |
| ·MEMS气相色谱系统的研究进展 | 第11-15页 |
| ·本论文主要目标和内容介绍 | 第15-16页 |
| ·主要目标 | 第15页 |
| ·内容介绍 | 第15-16页 |
| 第二章 色谱理论分析 | 第16-29页 |
| ·色谱流出曲线及有关术语 | 第16-19页 |
| ·流出曲线和色谱峰 | 第16页 |
| ·基线 | 第16-17页 |
| ·峰高 | 第17页 |
| ·保留值 | 第17-18页 |
| ·区域宽度 | 第18-19页 |
| ·色谱法分析的基本原理 | 第19-22页 |
| ·分配系数K | 第20页 |
| ·分配比k | 第20页 |
| ·滞留因子Rs | 第20-21页 |
| ·分配系数K与分配比k的关系 | 第21页 |
| ·分配系数K及分配比k与选择因子α的关系 | 第21-22页 |
| ·塔板理论 | 第22-24页 |
| ·分离度 | 第24-25页 |
| ·基本色谱分离方程式 | 第25-27页 |
| ·分离度与柱效的关系 | 第26页 |
| ·分离度与选择因子的关系 | 第26页 |
| ·分离度与容量因子的关系 | 第26-27页 |
| ·分离度与分析时间的关系 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 MEMS气相色谱柱的设计与研制 | 第29-45页 |
| ·MEMS主要工艺介绍 | 第29-31页 |
| ·阳极键合工艺 | 第29-30页 |
| ·硅高深宽比反应离子刻蚀技术 | 第30-31页 |
| ·MEMS气相色谱柱的设计 | 第31-39页 |
| ·材料选择 | 第31-32页 |
| ·形状设计 | 第32-35页 |
| ·固定液的选择 | 第35-39页 |
| ·MEMS气相色谱柱的研制 | 第39-44页 |
| ·MEMS色谱柱的制备工艺 | 第39-43页 |
| ·固定相的涂敷 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 测试与分析 | 第45-50页 |
| ·测试条件的选择 | 第45页 |
| ·柱温的选择 | 第45页 |
| ·进样量的选择 | 第45页 |
| ·测试方法 | 第45-47页 |
| ·6米色谱柱分离结果 | 第47-48页 |
| ·1米S型色谱柱分离结果 | 第48页 |
| ·结果讨论 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 总结 | 第50-52页 |
| ·主要研究工作 | 第50页 |
| ·主要成果 | 第50-51页 |
| ·进一步的工作设想 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 发表论文目录 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
